[发明专利]用于调节过滤组件的系统和方法

说明书

背景技术

很多工业领域(包括微电子业和制药业)中使用的化学品必须是极其纯净的。这些化学品在使用时通常需要很精细的过滤，以去除干扰这些工业所使用的方法、或毁掉这些工业制造的产品的任何污物。通常，被用于过滤这些化学品的过滤组件具有可渗透的过滤介质。化学品将通过过滤介质，且化学品中的任何污物将被捕获到过滤介质内或表面上。

在过滤化学品之前，实施本发明的系统和方法调节(condition)过滤组件并阻止过滤组件自身将污物引入化学品中。通常，冲洗经过滤组件以去除任何污物的清洗液可被包含在过滤组件内，即使是新制造的过滤组件。清洗液可以是与要过滤的化学品相容的任何液体。对于毒性或价格较低的化学品，清洗液本身可能为化学品本身。更经常地，清洗液可以是毒性或价格较低的化学品的成份或化学品的液体溶剂。在冲洗过滤组件时，清洗液可将过滤组件内的任何气体移走且将容纳在过滤组件中的任何气体和其它污物带走。冲洗之后，填充有清洗液的被调节的过滤组件可被保留和/或运送，并且在将清洗液从过滤组件上去除之后可将其用于过滤化学品。

发明内容

实施本发明的系统和方法可用于一次调节一个或几个过滤组件。每个过滤组件可包括过滤介质、入口、排气口(vent)、和出口。过滤介质可具有在过滤组件内的上游侧和下游侧。入口和排气口可在过滤介质的上游侧上，并且出口可在过滤介质的下游侧上。

根据本发明的一个方面，用于调节过滤组件的方法可包括：打开过滤组件的入口，用清洗液填充过滤组件内的过滤介质的上游侧；并且用清洗液填充过滤组件内的过滤介质的下游侧和过滤介质。该方法还可包括关闭入口并将真空施加到打开的出口，同时入口被关闭以调节过滤组件。

根据本发明的另一方面，用于调节过滤组件的系统可包括清洗液供应部件、真空装置、入口阀、和控制器。清洗液供应部件可被联接(couple)到过滤组件的入口，并且真空装置可被联接到过滤组件的至少出口。入口阀可被被操作成打开和关闭过滤组件的入口，并且控制器可被连接到至少真空装置和入口阀。控制器可被操作成打开入口阀并且从清洗液供应部件经过打开的入口供应清洗液，以用清洗液填充过滤组件内的过滤介质的上游侧、过滤介质、和过滤介质的下游侧。控制器也可操作成关闭入口阀和致动真空装置，以将真空施加到用清洗液填充的过滤组件的打开的出口。

实施本发明的这些方面的方法和系统具有很多有利的特征，例如包括对于在将过滤组件用于过滤任何化学品之前从过滤组件去除污物高度有效的那些特征。例如，通过用清洗液填充过滤组件，包括过滤介质的上游侧、过滤介质本身、和过滤介质的下游侧，实施本发明的方法和系统确保过滤组件被清洗液彻底地冲洗。在过滤组件内部中的污物包括如空气的气体被清洗液移走和/或带走，从而使过滤组件基本没有污物。而且，通过将真空施加到打开的出口同时入口被关闭时，任何剩余的污物、尤其是任何被捕获在过滤介质的孔隙和空隙中或被夹带在清洗液中的任何气体借助通过真空而打开的出口被快速和有效地去除。对于很多实施例，出口和排气口可被打开同时入口被关闭，并且真空装置可将真空施加到打开的出口和打开的排气口，以便甚至更快速和有效地去除过滤组件中的任何剩余的气体。

根据本发明的另一方面，用于调节过滤组件的方法可包括通过以下方式调节过滤组件：1)使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过所述过滤组件的打开的排气口到达废物容置部；和2)使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质、沿所述过滤介质的下游侧，经过滤组件的打开的出口到达废物容置部。该方法还可包括：用具有类似的入口、出口、和排气口的第二组件代替被调节的过滤组件；关闭所述第二组件的入口；以及使清洗液从所述废物容置部经过所述第二组件的打开的出口和打开的排气口中的至少一个到达所述第二组件。

实施本发明的该方法还具有几个有利特征。例如，通过使清洗液从废物容置部进入第二组件，所述清洗液废物可被干净和安全地容纳在第二组件中。第二组件的入口、出口和排气口可被密封，并且容纳清洗液废物的被密封的第二组件可被适当地处置，例如焚毁，而不使环境或任何服务人员暴露于任何危险的物质。

附图说明

图1为用于调节过滤组件的系统的实施例的示意图。

图2为用于调节过滤组件的系统的另一实施方式的示意图。

具体实施方式

根据本发明的一个或多个方面的用于调节过滤组件的系统可以多种方法中的任一种实施并且可用于调节多种过滤组件中的任一种，或者一次用于一个过滤组件，或者一次用于多个过滤组件。