[发明专利]一种药槽上药装置及调整药槽上药装置垂直轴垂直度方法有效

专利信息
申请号: 201310738921.3 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN103738634A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 刘超 申请(专利权)人: 苏州艾隆科技股份有限公司
主分类号: B65G1/04 分类号: B65G1/04
代理公司: 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人: 黄珩
地址: 215123*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 上药 装置 调整 垂直 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种药槽上药装置及调整药槽上药装置垂直轴垂直度方法领域。

背景技术

在现有技术中,药槽垂直度的调整需要使用水平仪调整,这种调整方式繁琐,需要借助水平仪才能完成药槽上药装置垂直度的调整。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题,提供一种药槽上药装置及调整药槽上药装置垂直轴垂直度方法。

本发明所采用的技术方案是:一种药槽上药装置,用于药房的上药,包括上下两条水平设置的水平轴、垂直两条上述水平轴的垂直轴以及机械手,上述机械手滑动设置在上述垂直轴上。

本发明所采用的另一种技术方案是:调整药槽上药装置垂直轴垂直度方法,包括以下步骤:1)将机械手沿所述垂直轴中下降至加药槽最底层,标记上述机械手此时的位置,并作一条垂直线,作为第一水平位置;2)将机械手沿所述垂直轴中上升至加药槽最高层,标记上述机械手此时的位置,并作一条垂直线,作为第二水平位置;3)测量出上述第一水平位置和所述第二水平位置之间的水平距离,上述水平距离即为偏差距离;4)判断第二水平位置与第一水平位置的相对位置,若第二位置相对所述第一位置有偏差,则水平调整药槽上药装置垂直轴的位置;若第二位置相对所述第一位置无偏差,则不需调整药槽上药装置垂直轴位置。

优选的,上述步骤4)中,当上述第二位置位于上述第1位置的右边,将上述药槽上药装置垂直轴的最高点水平向左移动到第一水平位置;当上述第二水平位置在上述第一水平位置的左边,将上述药槽上药装置垂直轴的最低点向左水平移动到第二水平位置。

优选的,还包括步骤6):采用联轴器,将经过位置调整的上述药槽上药装置的水平轴及垂直轴锁紧。

采用本技术方案的有益效果是:本发明使用的方法能够简单的测量出药槽是否处于垂直位置,并且可以根据测量的结果有效的调整药槽的位置,且不需要借助水平仪等昂贵的测量仪器,因此调整方简单并且调整的成本较低,只要简单的测量工具即可完成药槽上药装置垂直轴的调整。

附图说明

为了使本发明的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本发明作进一步详细的说明:

图1是本发明的药槽上药槽装置垂直轴处于正确位置示意图;

图2是本发明的工作流程示意图;

图3是本发明的药槽上药槽装置垂直轴处于左偏时位置示意图;

图4是本发明的药槽上药槽装置垂直轴处于右偏时位置示意图;

其中1.水平轴 2.垂直轴 3.机械手 4.联轴器 5.第一水平位置X1 6.第二水平位置X2。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。

首先,如图1所示,一种药槽上药装置,用于药房的上药,包括上下两条水平设置的水平轴1、垂直两条水平轴1的垂直轴2以及机械手3,机械手3滑动设置在垂直轴2上。

如图2-4所示,一种调整药槽上药装置垂直轴垂直度方法,当调整药槽垂直度时,包括以下步骤:首先将机械手沿所述垂直轴中下降至加药槽最底层,标记所述机械手此时的位置,并作一条垂直线,作为第一水平位置X1;其次将机械手沿所述垂直轴中上升至加药槽最高层,标记所述机械手此时的位置,并作一条垂直线,作为第二水平位置X2;然后测量出第一水平位置X1和第二水平位置X2之间的水平距离,水平距离即为偏差距离;判断第二水平位置与第一水平位置的相对位置,若第二位置相对所述第一位置有偏差,则水平调整药槽上药装置垂直轴的位置;若第二位置相对所述第一位置无偏差,则不需调整药槽上药装置垂直轴位置。其中,当第二位置位于第一水平位置X1的左边,即垂直轴左偏,将药槽上药装置垂直轴的最高点水平向左移动到第一水平位置X1;当第二水平位置X2在第一水平位置X1的右边,即垂直轴右偏,将药槽上药装置垂直轴的最低点向右水平移动到第二水平位置X2。

调整完水平度或者垂直度后,采用联轴器,将经过位置调整的药槽锁紧。

本发明的有益效果是:本发明使用的方法能够简单的测量出药槽是否处于垂直位置,并且可以根据测量的结果有效的调整药槽的位置,且不需要借助水平仪等昂贵的测量仪器,因此调整方简单并且调整的成本较低,只要简单的测量工具即可完成药槽上药装置垂直轴的调整。

以上所述的仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。

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