[发明专利]一种单向可视低辐射玻璃的制作方法无效

专利信息
申请号: 201310718207.8 申请日: 2013-12-21
公开(公告)号: CN103755155A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 魏佳坤 申请(专利权)人: 揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 代理人: 吴剑锋
地址: 522000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 单向 可视 辐射 玻璃 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种单向可视低辐射玻璃的制作方法。

背景技术

低辐射玻璃是指对红外辐射具有高反射率,对可见光具有良好透射率的平板镀膜玻璃。低辐射玻璃具有良好的透光、保温、隔热性能,广泛应用于窗户、炉门、冷藏柜门等地方。

现有的单银低辐射玻璃一般可视效果较差,不能满足使用者的需求,故此,现有的单银低辐射玻璃有待于进步完善。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种工艺简单,操作方便,生产成本相对较低的单向可视低辐射玻璃的制作方法。

为了达到上述目的,本发明采用以下方案:

一种单向可视低辐射玻璃的制作方法,其特征在于包括以下步骤:

A、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射Nb平面靶,在玻璃基板上磁控溅射Nb2O5层;

B、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射铝旋转靶,在步骤A中Nb2O5层上磁控溅射Al2O3层;

C、采用氩气作为反应气体,直流电源溅射银平面靶,在步骤B中的Al2O3层上磁控溅射Ag层;

D、采用氩气作为反应气体,直流电源溅射Al平面靶,在步骤C中Ag层上磁控溅射Al层;

E、采用氩气作为反应气体,交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶,在步骤D中的Al层上磁控溅射TiO2层。

如上所述的一种单向可视低辐射玻璃的制作方法,其特征在于步骤A中所述Nb2O5层的厚度为10~15nm,所述氩气与氧气的体积比为2:3,溅射压力2.5*10-3mbar,溅射功率10~15KW。

如上所述的一种单向可视低辐射玻璃的制作方法,其特征在于步骤B中所述Al2O3层的厚度为15~25nm,所述氩气与氧气的体积比为1:2,溅射功率40~66KW。

如上所述的一种单向可视低辐射玻璃的制作方法,其特征在于步骤C所述Ag层的厚度为8~10nm,所述直流电源的溅射功率3~6KW。

如上所述的一种单向可视低辐射玻璃的制作方法,其特征在于步骤E中所述Al层的厚度为3~5nm,所述直流电源的溅射功率3~5KW。

如上所述的一种单向可视低辐射玻璃的制作方法,其特征在于步骤A中所述玻璃基板的厚度为4~19mm。

综上所述,本发明的有益效果:

本发明工艺方法简单,操作方便,生产成本相对较低。本发明产品在使用了高反射材料铝的情况下,可见光透过率能达50%,可满足室内看到室外的目的。由于使用Al2O3及Al的复合,可增加室外反射,从而达到单向可视的目的。

本发明中Al层一方面作为银层的阻挡层,防止氧化,另一方面,利用铝的高反射,具备单向可视的效果。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明做进一步描述:

实施例1

本发明一种单向可视低辐射玻璃的制作方法,包括以下步骤:

A、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射Nb平面靶,在玻璃基板上磁控溅射Nb2O5层;所述Nb2O5层的厚度为10~15nm,所述氩气与氧气的体积比为2:3,即氩气:氧气=600sccm:900sccm,溅射压力2.5*10-3mbar,溅射功率10KW。所述玻璃基板的厚度为4mm。

B、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射铝旋转靶,在步骤A中Nb2O5层上磁控溅射Al2O3层;所述Al2O3层的厚度为15nm,所述氩气与氧气的体积比为1:2,即氩气:氧气=400sccm:800sccm,溅射功率40KW。

C、采用氩气作为反应气体,直流电源溅射银平面靶,在步骤B中的Al2O3层上磁控溅射Ag层;所述Ag层的厚度为8nm,所述直流电源的溅射功率3KW。

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