[发明专利]一种基于DMD的成像前处理装置和方法有效

专利信息
申请号: 201310700626.9 申请日: 2013-12-16
公开(公告)号: CN103716538B 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 赵首博;曲兴华;张福民 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232;G02B17/02
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所12201 代理人: 李丽萍
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 dmd 成像 处理 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于DMD的成像前处理装置,包括CCD(1)、第一透镜组(2)、DMD(3)、第二透镜组(4)、DSP(5)和物方工作面(6),其特征在于,

所述CCD(1)与所述DMD(3)之间连接有DSP(5);所述CCD(1)接收从所述DMD(3)反射出的视场光线;所述第一透镜组(2)将DMD面成像在CCD面上,从而决定了DMD与CCD的像元对应比例;DMD的空间调制电路通过控制DMD在+12°偏角状态的保持时间来控制空间线性调制视场光线的强度,然后将调制后的光线反射给CCD;所述第二透镜组(4)将场景成像在DMD面上,所述第二透镜组(4)的光轴与第一透镜组(2)的光轴成24°夹角,从而决定了系统视场范围和工作距离;以DSP(5)为主芯片的DSP核心运算控制电路接收CCD采集的图像信息并处理,反馈控制DMD的调制动作,以得到理想的成像效果。

2.一种基于DMD的成像前处理方法,其特征在于,采用如权利要求1所述基于DMD的成像前处理装置,并包括以下步骤:

步骤一、DMD中的微镜像元和CCD像元实现空间一一对应:

DMD翻转以纵向和横向4像元为周期成黑白相间光栅条纹,CCD像元以4为周期采样,复制移相补全整周期,显示处理后图像;若观察得到莫尔条纹,条纹数量其中:p是条纹间距,△φ是相位差,则调整CCD与DMD的相对位置直到条纹消失,从而实现DMD中的微镜像元和CCD像元在空间上一一对应;

步骤二、CCD与DMD的坐标对应关系成像:

DMD像元坐标序列成齿状排列,与实际空间坐标不符,建立DMD坐标序列变换方程:

W1(x,y)=div(x,2)-0.5,0.5+yeven(x)div(x,2),yodd(x)]]>

建立CCD与DMD坐标变换数学模型:

xCyC1=W2xDyD1=t11t12mt21t22nkxDyD1]]>

控制DMD翻转成棋盘格图案,角点检测得到对应点的CCD面坐标值,至少选取出7个点的图像坐标;联立方程解出参数t11、t12、t21、t22,m、n和k;经过W1,W2两次变换得到DMD与CCD的坐标对应成像关系;

步骤三、DMD与物方工作面的对应关系成像:

根据理想单透镜将任意方向的平面成像为平面像的理论,建立物方工作面方程a(x-x0)+by+cz=0,其中x0为此平面与光轴交点的横坐标,(a,b,c)为平面法向的方向向量,其相对应的DMD像面方程为f为第二透镜组焦距;物方工作面与DMD像面在第二透镜组的光轴上的共轭点对分别是(x0,0,0)和物方工作面和DMD像面在第二透镜组的光轴夹角θ′和θ对应关系是物方工作面和DMD像面空间坐标对应关系方程:

v=-cosθcosθ×1β2-vfsinθvw=1β2-vfsinθw]]>

(v,w)和(v′,w′)分别为物平面坐标和DMD像平面坐标,是第二透镜组的视场放大率,β1是第一透镜组的视场放大率,成像前处理的视场放大率为β=β1β2,从而实现成像前对入场光线的处理。

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