[发明专利]一种用于电感耦合型等离子处理器射频窗口的加热装置在审
| 申请号: | 201310671759.8 | 申请日: | 2013-12-12 |
| 公开(公告)号: | CN104717817A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
| 发明(设计)人: | 吴狄;倪图强 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号: | H05H1/20 | 分类号: | H05H1/20 |
| 代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 电感 耦合 等离子 处理器 射频 窗口 加热 装置 | ||
1.一种用于电感耦合型等离子处理器射频窗口的加热装置,该装置加热射频窗口(1),其特征在于,该加热装置包含:至少一个加热器(2),其贴合设置在射频窗口(1)上,所述的加热器(2)包含电阻丝、包裹在电阻丝上的绝缘薄膜,且所述加热器厚度小于1mm;
所述加热器的电阻丝包括多个从射频窗口中心向射频窗口边缘延展的电阻丝段,每个电阻丝段在两个端点通过一个连接部与相邻的电阻丝端连接,所述多个电阻丝段与多个连接部共同构成加热器(2)。
2.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述的绝缘薄膜采用聚酰亚胺。
3.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述的加热器(2)呈环状部分覆盖在所述的射频窗口(1)上,围绕射频窗口(1)上表面外围。
4.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述的加热器(2)全部覆盖在所述的射频窗口(1)上。
5.如权利要求2所述的加热装置,其特征在于,在所述的射频窗口(1)上部设有射频线圈(3)。
6.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述加热器(2)的电阻丝沿着射频窗口(1)径向分布,防止射频线圈(3)产生的电磁场在电阻丝中产生感应电流。
7.如权利要求6所述的加热装置,其特征在于,所述多个电阻丝段的长度总和大于所述多个连接部长度总和的3倍以上。
8.如权利要求6所述的加热装置,其特征在于,所述加热器(2)覆盖所述射频窗口顶部外围圆周。
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