[发明专利]一种高清洁度用于盛碱供液的高位槽设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于为反应釜供液的盛碱高位槽装置装置领域，属于化工设备技术领域，特别提供了一种高清洁度用于盛碱供液的高位槽设备。

背景技术

在实际生产中，在高位槽的使用过程中，经常会用高位槽连续加入几种反应物料，为了避免反应物料的污染，每次在加入反应物料之前都需要对高位槽进行冲洗，而现有的高位槽冲洗时不仅费时费力，而且冲洗的效果不够理想，尤其是盛装过烧碱的高位槽，由于片碱附带有杂质，如不及时、彻底的滤除掉，很容易随碱液一同进入反应釜，最终对产品的品质产生不良影响。

发明内容

本发明的目的是为了解决上述不足，本发明的目的在于提供一种配比精确、确保质量、方便清洗的高位槽，所以这里特提供了一种高清洁度用于盛碱供液的高位槽设备。

本发明提供了一种高清洁度用于盛碱供液的高位槽设备，其特征在于：所述的高清洁度用于盛碱供液的高位槽设备包括槽主体（1）、进料口（2）、出料口（3）、支座（4）、阀门（5）、流量表（6）、控制器（7）、排空阀（8）、过滤器A（9）、通气口（10）、过滤器B（11）、搅拌器（12）；

其中：所述槽主体（1）的下部的侧壁上设置有出料口（2），出料口（2）上连接有出料管道，出料管道上设置有阀门（5）和流量表（6），并且阀门（5）与控制器（7）通过信号连接，槽主体（1）的底部呈漏斗形，并在下端设置有排空阀（8），与控制器（7）信号连接的还有搅拌器（12）。

所述的出料口（3）处设置有过滤器A（9），槽主体（1）的顶端设有通气口（10），通气口（10）处设有过滤器B（11）。

本发明的优点：

本发明所述的高清洁度用于盛碱供液的高位槽设备，精确控制，反应充分，确保生产质量，槽主体的底部采用漏斗形设计，并在下端设置排空阀，有效排出杂质，可充分混匀料液，清洗彻底。

附图说明

下面结合附图及实施方式对本发明作进一步详细的说明：

图1为  本发明的原理示意图 。

具体实施方式

实施例1

本实施例提供了一种高清洁度用于盛碱供液的高位槽设备，其特征在于：所述的高清洁度用于盛碱供液的高位槽设备包括槽主体（1）、进料口（2）、出料口（3）、支座（4）、阀门（5）、流量表（6）、控制器（7）、排空阀（8）、过滤器A（9）、通气口（10）、过滤器B（11）、搅拌器（12）；

其中：所述槽主体（1）的下部的侧壁上设置有出料口（2），出料口（2）上连接有出料管道，出料管道上设置有阀门（5）和流量表（6），并且阀门（5）与控制器（7）通过信号连接，槽主体（1）的底部呈漏斗形，并在下端设置有排空阀（8），与控制器（7）信号连接的还有搅拌器（12）。

所述的出料口（3）处设置有过滤器A（9），槽主体（1）的顶端设有通气口（10），通气口（10）处设有过滤器B（11）。