[发明专利]一种颗粒温度δv的测量方法有效
申请号: | 201310577859.4 | 申请日: | 2013-12-13 |
公开(公告)号: | CN103604514A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 杨晖;杨海马;孔平;郑刚 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | G01K3/04 | 分类号: | G01K3/04;G01N15/00 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 颗粒 温度 测量方法 | ||
1.一种颗粒温度δv的测量方法,用于流化床内颗粒温度的测量,其特征在于,所述测量方法包括以下步骤:
步骤一:用激光作为光源,通过凹透镜扩散后照射在所述流化床内的颗粒上,在远场产生动态波动的散斑;
步骤二:用成像装置以单位曝光时间T0对步骤一中的所述散斑连续成像,得到一系列所述单位曝光时间T0下的散斑图像;
步骤三:将步骤二中的所述散斑图像输入电脑,所述电脑将所述单位曝光时间T0下的所述散斑图像转换成所述单位曝光时间T0下的像素灰度值;
步骤四:将步骤三中得到的所述单位曝光时间T0下的所述像素灰度值经过计算,得到所述颗粒温度δv随时间变化的情况。
2.根据权利要求1所述的颗粒温度δv的测量方法,其特征在于:
其中,所述成像装置为像素数量为N的线阵相机,N为1024。
所述散斑连续成像的总成像数为K,所述K为偶数。
3.根据权利要求2所述的颗粒温度δv的测量方法,其特征在于:
其中,将所述单位曝光时间T0下的所述像素灰度值存入矩阵x:
其中,每一个xji表示每一个所述散斑图像所对应的所述像素灰度值,i∈[1,N],j∈[1,K],N为所述像素数量,K为所述总成像数,
取所述矩阵x中的奇数行,组成新的矩阵y:
其中,P=K/2,
根据公式
根据公式其中,χiT为曝光时间为T时第i个像素的灰度值,Ii为第i个像素上的光强,结合所述矩阵y,
得出所述曝光时间为T0时所述矩阵y中第l行所述散斑图像的光强平方的平均值为:
根据Siegert公式:<(Ii(t′)Ii(t″))>=<I>2{1+β[g1(t′-t″)]2},其中,β为系统相干系数,g1(t)=exp(-4πδv/λ)为颗粒的散射光场自相关函数,所述颗粒的散射光场自相关函数g1(t)=exp(-4πδv/λ)式中,δv即所述颗粒温度,λ为激光波长,则所述曝光时间为T0时第l行像素的光强平方的平均值为:
根据所述公式得出所述矩阵y中所述散斑图像在所述曝光时间为T0时的所述衬比度值Vl(T0)为:
则所述矩阵y中的所述像素灰度值的所述衬比度值VP(T0)随时间变化的矩阵为:
VP(T0)=[V1(T0),V2(T0),...,VP(T0)];
其中,将所述矩阵x中每两行数据相加,得到两倍曝光时间2T0下的所述像素灰度值,组成新的矩阵z:
其中,zji表示所述两倍曝光时间2T0下的像素灰度值,i∈[1,N],j∈[1,Q],Q=K/2,N为所述像素数量,
经过计算,所述散斑图像在所述曝光时间为2T0时的所述衬比度值Vq(2T0)为:
则所述矩阵z中的所述像素灰度值的所述衬比度值VQ(2T0)随时间变化的矩阵为:
所述曝光时间为T0时的所述衬比度值Vl(T0)与所述曝光时间为2T0时的所述衬比度值Vq(2T0)之比随时间t变化的函数C(t)为:
根据公式g1(t)=exp(-4πδv/λ),λ为所述激光波长,设Φ=8πT0/λ,则所述C(t)可简化为:
根据矩阵
VP(T0)=[V1(T0),V2(T0),...,VP(T0)]
和矩阵
将所述矩阵VQ(2T0)除以所述矩阵VP(T0),得到所述函数C(t),
则,根据得到的所述颗粒温度δv随时间变化的情况。
4.根据权利要求3所述的颗粒温度δv的测量方法,其特征在于:
其中,将得到的所述颗粒温度δv随时间变化的情况通过低通滤波器滤除高频噪声,得到消除所述噪声后的所述颗粒温度δv随时间变化的情况。
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