[发明专利]一种喷胶单元吸盘的清洗装置及其清洗方法在审
申请号: | 201310553986.0 | 申请日: | 2013-11-06 |
公开(公告)号: | CN104624444A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 李晓明 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
主分类号: | B05C13/02 | 分类号: | B05C13/02 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 何丽英 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单元 吸盘 清洗 装置 及其 方法 | ||
1.一种喷胶单元吸盘的清洗装置,其特征在于:包括旋转外环(3)和隔环(4),其中旋转外环(3)设置于吸盘(2)的外侧边缘上,所述隔环(4)设置于吸盘(2)和旋转外环(3)之间、并位于吸附于吸盘(2)上的晶片(1)的下方。
2.按权利要求1所述的喷胶单元吸盘的清洗装置,其特征在于:所述吸盘(2)的外侧边缘沿周向设有止口,所述隔环(4)和旋转外环(3)均放置于该止口上。
3.按权利要求2所述的喷胶单元吸盘的清洗装置,其特征在于:所述隔环(4)的外侧为倒角结构,所述隔环(4)的倒角结构与旋转外环(3)之间形成用于容置从晶片(1)边缘流下的光刻胶的间隙。
4.按权利要求2所述的喷胶单元吸盘的清洗装置,其特征在于:所述隔环(4)的上表面与吸盘(2)的上表面位于同一平面,均接触晶片(1)。
5.一种按权利要求1-4任一项所述装置的清洗方法,其特征在于:喷胶单元工作时,光刻胶将于晶片(1)边缘流入隔环(4)与旋转外环(3)之间的区域,清洗时,将隔环(4)和旋转外环(3)取下清洗。
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