[发明专利]石墨烯镀层的制造方法

权利要求书

1.一种石墨烯镀层的制造方法，其特征在于以溅镀工艺在基材形成石墨镀层，以及对该石墨镀层进行光刻工艺，使该石墨镀层薄化成石墨烯层。

2.如权利要求1所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于在该光刻工艺中以离子源薄化该石墨镀层，以使该石墨镀层的部分自该石墨镀层剥离而薄化成该石墨烯层。

3.如权利要求2所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于该离子源薄化该石墨镀层的电压为0.5KV-1.2KV、照射时间为2min-7min、气体流量为20SCCM-35SCCM。

4.如权利要求1所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于在进行该溅镀工艺前对该基材进行清洗步骤及干燥步骤。

5.如权利要求4所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于该清洗步骤提供超音波震荡碱水浴，加热该超音波震荡碱水浴后将该基材放置于该超音波震荡碱水浴，完成该清洗步骤后进行该干燥步骤，该干燥步骤将该基材放置于烘箱中烘烤。

6.如权利要求5所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于该超音波震荡碱水浴加热的温度不小于摄氏100度且该基材放置于该超音波震荡碱水浴的时间不小于1小时。

7.如权利要求1所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于该溅镀工艺是在溅镀机进行，该溅镀机具有真空腔，在该真空腔中放置石墨靶材及该基材，且提供反应性气体在该真空腔内，以进行该溅镀工艺。

8.如权利要求7所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于在进行该溅镀工艺后另包含有抽气步骤，其将该反应性气体抽离该真空腔。

9.如权利要求7所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于在进行该光刻工艺前另包含有通气步骤，其通入氩气在该真空腔。

10.如权利要求1所述的石墨烯镀层的制造方法，其特征在于该溅镀工艺的工艺温度不大于摄氏250度。