[发明专利]投影机

权利要求书

1.一种投影机，其特征在于，包括：

固体光源，

扩散构件，其使从所述固体光源射出的光扩散而作为扩散光射出，

激励光源，

荧光体，其通过从所述激励光源射出的光激励，放射荧光，

光调制装置，其对从所述扩散构件射出的所述扩散光和从所述荧光体放射的所述荧光相应于图像信息进行调制，

投影光学系统，其将通过所述光调制装置调制的光作为投影图像进行投影，

第1遮光构件，其配置于所述扩散构件和所述光调制装置之间的光路上，具有以所述扩散光的光轴为中心的开口部，和

第2遮光构件，其配置于所述荧光体和所述光调制装置之间的光路上，具有以所述荧光的光轴为中心的开口部；

在设从所述扩散光的光轴的方向看时的所述第1遮光构件的所述开口部的面积为第1开口面积A1、设从所述扩散光的光轴的方向看时的所述第1遮光构件对所述扩散光进行遮光的部分的面积为第1遮光面积A2、设从所述荧光的光轴的方向看时的所述第2遮光构件的所述开口部的面积为第2开口面积B1、设从所述荧光的光轴的方向看时的所述第2遮光构件对所述荧光进行遮光的部分的面积为第2遮光面积B2时，

所述第1遮光面积A2相对于所述第1开口面积A1之比A2／A1比所述第2遮光面积B2相对于所述第2开口面积B1之比B2／B1大。

2.根据权利要求1所述的投影机，其特征在于：

所述第1遮光构件构成为，可以对应于从所述固体光源射出的光的光强度分布，调整所述比A2／A1。

3.根据权利要求1或2所述的投影机，其特征在于：

所述第2遮光构件构成为，可以对应于从所述激励光源射出的光的光强度分布，调整所述比B2／B1。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的投影机，其特征在于：

所述第1遮光构件构成为，可以对应于通过所述投影光学系统投影的所述投影图像的辉度或对比度，调整所述比A2／A1。

5.根据权利要求1～4的任一项所述的投影机，其特征在于：

所述第2遮光构件构成为，可以对应于通过所述投影光学系统投影的所述投影图像的辉度或对比度，调整所述比B2／B1。

6.根据权利要求1～5的任一项所述的投影机，其特征在于：

在所述扩散构件和所述光调制装置之间的光路上，配置有使从所述扩散构件射出的所述扩散光平行化的第1准直光学系统、使从所述第1准直光学系统射出的光的辉度分布均匀化的一对第1透镜阵列和使从所述一对第1透镜阵列射出的光的偏振状态一致的第1偏振变换元件；

所述第1遮光构件配置于所述一对第1透镜阵列之间的光路上或所述一对第1透镜阵列和所述第1偏振变换元件之间的光路上。

7.根据权利要求1～6的任一项所述的投影机，其特征在于：

在所述荧光体和所述光调制装置之间的光路上，配置有使从所述荧光体射出的所述荧光平行化的第2准直光学系统、使从所述第2准直光学系统射出的光的辉度分布均匀化的一对第2透镜阵列和使从所述一对第2透镜阵列射出的光的偏振状态一致的第2偏振变换元件；

所述第2遮光构件配置于所述一对第2透镜阵列之间的光路上或所述一对第2透镜阵列和所述第2偏振变换元件之间的光路上。