[发明专利]一种反应釜的维压密封装置无效

专利信息
申请号: 201310483251.5 申请日: 2013-10-16
公开(公告)号: CN103480315A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 余昌富;张施东 申请(专利权)人: 浙江宇达化工有限公司
主分类号: B01J19/00 分类号: B01J19/00;B01J3/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 312352 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 反应 密封 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种反应釜的维压密封装置,更具体说是一种维持反应釜较低压力的维压密封装置,属化工设备技术领域。

背景技术

一些化工生产过程中,反应到了末期只需要保持微小的压力,如在单质硅生产硅溶胶的反应中,到了反应末期仅需0.05MPa以下的反应压力,且反应缓和、产生的氢气量也比较少。由于其反应压力微小,在现有的实际生产中,往往采用关小阀门微敞开式反应,这样导致的结果:一是维持不了微小反应压力,反应体系的压力不稳定,影响反应效果;二是敞开式反应容易使反应物料与空气接触,有较大的安全隐患,如单质硅生产硅溶胶的反应中,微敞开会导致空气进入反应器,存在与反应生成的氢气发生爆炸的安全隐患。

发明内容

针对上述情况,本发明拟解决的问题是提供一种可维持反应釜微小反应压力、且压力稳定、隔离空气的反应釜的维压密封装置,以提高反应效果,消除安全隐患。

为达到上述目的,本发明采用以下技术方案:一种反应釜的维压密封装置,它包括水箱和连接管,所述连接管上设有阀门,在反应釜上设有连接口,所述水箱的底部设有通水口,所述连接管的二端分别与反应釜上的连接口、水箱的通水口连通;在反应过程中,所述水箱中置有水,所述水箱中水面与反应釜连接口的高度差Δh为0.5-5米。

所述阀门是控制阀,所述反应釜内设有压力传感器,所述压力传感器与控制阀信号连接。

所述连接管上具有U形的弯折。

所述水箱上还设有补水装置。

采用上述方案,本发明的反应釜的维压密封装置,由于反应釜上的连接口与水箱通过连接管连通,且在反应过程中,水箱中水面与反应釜连接口的高度差Δh为0.5-5米。这样可保持反应釜0.005-0.05MPa的微小反应压力。在本发明的反应釜的维压密封装置的应用中,水箱中水面与反应釜连接口的高度差可根据具体反应情况来确定。如在单质硅生产硅溶胶的反应中,水箱中水面与反应釜连接口的高度差Δh具体可设定到4米。

总之,本发明的反应釜的维压密封装置适合维持反应釜微小反应压力、且压力稳定、隔离空气,以提高反应效果,保证安全生产。

另外,水箱上还设有补水装置,可保证水箱中水面高度的稳定。阀门采用控制阀,且反应釜内设有压力传感器,传感器与控制阀信号连接,这样,可以在反应釜的压力小于设定压力(也就是水箱中水面与反应釜连接口的高度差为h的水柱压力)时,关闭控制阀,防止水罐入反应釜,当反应釜的压力大于设定压力时,开启控制阀,用维持水箱中水面与反应釜连接口的高度差来维持设定压力。

附图说明

图1是本发明反应釜的维压密封装置的结构示意图。

图中:1-反应釜,2-连接口,3-连接管,4-U形的弯折,5-水箱,6-阀门,7-通水口,8-补水装置,9-压力传感器。

具体实施方式

如图1所示,本发明的反应釜的维压密封装置,它包括水箱5和连接管3,所述连接管3上一般具有U形的弯折4。所述连接管3上设有阀门6,所述阀门6最好采用控制阀,并在反应釜1内设有压力传感器9,所述压力传感器9与控制阀信号连接。

在反应釜1上设有连接口2,所述连接口2的位置设置在反应釜1内物料以上的位置,一般可设置在反应釜投料口上。所述水箱5的底部设有通水口7,所述连接管3的二端分别与反应釜1上的连接口2、水箱5的通水口7连通;在反应过程中,所述水箱5中置有水,所述水箱5中水面与反应釜1连接口2的高度差Δh为0.5-5米。所述水箱5上最好设有补水装置8。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江宇达化工有限公司,未经浙江宇达化工有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310483251.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top