[发明专利]清洁被污染的表面的清洁设备和方法

说明书

技术领域

本公开的领域一般地涉及清洁设备，并且更具体地涉及可用于清洁被污染的表面的蒸汽清洁头。

背景技术

清洁操作一般用于改进外观美感和准备用于进一步处理的被污染的表面。用于清洁被污染的表面的传统方法一般分为两类，机械的和化学的。机械清洁一般包括用布或其它合适的材料物理地去除和/或收集污染物，和化学清洁一般涉及使用溶剂来分解污染物以便可以更容易地将其从被污染的表面去除。一般地，机械和化学清洁两种方法可被同时使用以执行期望的清洁操作。

关于清洁大的被污染的表面，用于去除污染物的一些已知的操作可包括最初施加清洁化学品到被污染的表面上并且允许清洁化学品保持在被污染的表面上预定的时间段从而分解该污染物。然后冲洗掉该化学品和分解的污染物。然而，这种清洁过程可产生可能处置费用大的大量的化学品废物。

在另一个已知的清洁操作中，将微纤维介质附着至蒸汽清洁设备，以便当将蒸汽传递到被污染的表面时，微纤维介质可与其摩擦。该已知清洁操作一般不使用化学品或清洁剂以促进清洁被污染的表面。然而，在至少一些已知的清洁操作中，仅使用蒸汽和机械摩擦可能不足以清洁或剥离被污染的表面。

发明内容

根据本公开的一方面，提供了清洁设备。该清洁设备包括第一喷嘴，其配置为以足以从表面去除污染物的压力引导清洁射流朝向被污染的表面。至少一个第二喷嘴，其配置为引导冲洗射流朝向被污染的表面以从其去除清洁流体，其中以足以使清洁射流与周围环境隔离的压力引导该冲洗射流。

有利地，至少一个第二喷嘴配置为以等于或大于清洁射流压力之一的压力引导冲洗射流。

有利地，该清洁设备进一步包括多个第二喷嘴，其围绕第一喷嘴沿圆周间隔开，以便所述多个第二喷嘴以足以使清洁射流与周围环境隔离的压力引导冲洗射流朝向被污染的表面。

有利地，该清洁设备进一步包括与所述第一喷嘴流体连通连接的清洁流体源，以及与所述至少一个第二喷嘴流体连通连接的冲洗流体源。

有利地，第一喷嘴配置为引导包括干蒸汽和至少一种清洁化学品的清洁射流。

优选地，第一喷嘴配置为引导包括以重量计至少40%的干蒸汽的清洁射流。

有利地，至少一个第二喷嘴配置为引导包括湿蒸汽和湿蒸汽与至少一种溶剂的组合中的至少一个的冲洗射流。

优选地，至少一个第二喷嘴配置为引导包括以重量计至少85%的湿蒸汽的冲洗射流。

有利地，第一喷嘴和所述至少一个第二喷嘴配置为同时引导清洁射流和冲洗射流朝向被污染的表面。

根据本公开的另一方面，提供了清洁系统。该清洁系统包括壳体，其包括容纳在其中的清洁流体源和冲洗流体源。清洁头连接到壳体。该清洁头包括第一喷嘴，其配置为以足以从表面去除污染物的压力引导清洁射流朝向被污染的表面。至少一个第二喷嘴，其配置为引导冲洗射流朝向被污染的表面以从其去除清洁流体，其中以足以使清洁射流与周围环境隔离的压力引导冲洗射流。

有利地，至少一个第二喷嘴配置为以等于或大于清洁射流压力之一的压力引导冲洗射流。

有利地，该清洁系统进一步包括至少一个软管，其流体连通连接所述清洁头与所述壳体。

有利地，清洁流体源包括蒸汽生成单元和清洁流体注射单元，并且其中所述冲洗流体源包括蒸汽生成单元和冲洗流体注射单元。

在本公开的又另一方面，提供了清洁被污染的表面的方法。该方法包括用第一喷嘴引导清洁射流朝向被污染的表面，以足以从表面去除污染物的压力引导该清洁射流。用至少一个第二喷嘴引导冲洗射流朝向被污染的表面以从其去除清洁流体，以足以使清洁射流与周围环境隔离的压力引导该冲洗射流。

有利地，引导冲洗射流进一步包括以等于或大于清洁射流压力之一的压力引导冲洗射流。

有利地，引导冲洗射流进一步包括引导多个冲洗射流朝向被污染的表面，以便多个冲洗射流基本上外接清洁射流。

有利地，该方法进一步包括同时引导清洁射流和冲洗射流朝向被污染的表面。

有利地，该方法进一步包括用包含蒸汽生成单元和清洁流体注射单元的清洁流体源生成清洁流体，以及用包含蒸汽生成单元和冲洗流体注射单元的冲洗流体源生成冲洗流体。

有利地，生成清洁流体进一步包括结合来自清洁流体注射单元的至少一种预定的清洁化学品和来自蒸汽生成单元的干蒸汽。

有利地，生成冲洗流体进一步包括以下的至少一种：