[发明专利]X射线管

说明书

技术领域

本发明是涉及一种在设为高真空状态的密封件（package）的内部，从电子源释放电子使的撞击X射线靶（target），再将从X射线靶释放的X射线，从密封件的X射线穿透窗放射至外部的X射线管，尤其还涉及一种防止因为X射线靶所反射的电子在密封件散射所引起动作特性不安定化的X射线管。

背景技术

在下述专利文献1中，已揭示一种对空气照射X射线，用以产生离子气体（ion gas）的X射线产生装置。使用在该X射线产生装置的X射线管，是以圆柱状密封件（真空管（bulb））作为本体，而在密封件内，从热丝（filament）射出的电子是经由聚焦而被聚集，撞击X射线靶而产生X射线，而该X射线是穿透输出窗（X射线穿透窗）而射出至密封件的外部。

图4与所述专利文献1的X射线管相同，是以玻璃制圆柱状密封件100为本体的所谓圆型管形态的X射线管的剖面图。该圆柱状密封件100，位于其一端面的圆形开口是被由铍（beryllium）所构成的膜的X射线穿透窗101所封闭，而内部则保持为高真空状态。在密封件100的内部中，于X射线穿透窗101的内面设有X射线靶102。此外，在密封件100的另一端面的侧，则设有属于电子源的阴极103与控制电极104。而且，从阴极103射出的电子是在控制电极104被加速，并经聚集而撞击X射线靶102，而得以将X射线从X射线穿透窗101放射至密封件100的外部。另外，在图4中，是以符号X示意性显示从X射线穿透窗101放射至密封件100的外部的X射线，并且以符号P来显示X射线穿透窗101中的X射线的放射的中心。

[先前技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本特开2005-116534号公报

发明内容

[发明所欲解决的课题]

然而，在图4所示现有技术的X射线管中，来自阴极103的电子被缩小成射束（beam）状，是以撞击X射线靶102的位置为中心而使X射线扩展成辐射状的点状的X射线照射（图4中以符号P所示的点即为中心），而X射线则是从X射线穿透窗101射出后扩展成圆锥状（在图4中以符号X显示），因此会有相对于照射对象物的大小，有效照射范围（area）狭小的问题。因此，若要使用照射范围狭小的圆型管X射线管使X射线照射至宽广的范围，就要使用多个X射线管，并将其予以并排使用，故在设备成本或在维修方面有极大负担。

此外，若要使X射线照射至宽广范围，虽也可考虑远离对象物来照射X射线，但若要照射所希望的X射线至照射对象物，就需加强X射线的照射强度。如此一来，甚至将X射线照射至不需要的部位，而产生X射线泄漏的问题。

因此，本案发明的发明人等，为了解决此种现有技术的圆型管形态的X射线的问题，发明了图5及图6所示的平型管形态的X射线管。该X射线管是以箱形密封件55作为本体，该箱形密封件55是由将1片玻璃制背面基板61与4片侧面板62组装成箱型而成的容器部51、及在该容器部51的开放侧周缘部由X射线不穿透性的金属所构成的基板53所构成。在成为该密封件55的X射线放射侧的基板53中，是形成有细缝（slit）状的开口部52（例如宽度2mm左右），而在该开口部52，则自基板53的外侧安装有由钛（titanium）箔所构成的X射线穿透窗54。

密封件55的内部是保持为高真空状态。在密封件55内，是于显现在基板53的开口部52的X射线穿透窗54中设有钨（tungsten）等的X射线靶56。此外，在密封件55的内部，是于与X射线穿透窗54相反侧的内面的背面基板61的内面设有背面电极57，而在该背面电极57下方则依序配设有热丝状的阴极58、从阴极58吸引电子的第1控制电极59、及将第1控制电极59所吸引的电子进行加速的第2控制电极60。

依据该X射线管，从阴极58被第1控制电极59所吸引的电子是通过第2控制电极60加速，且撞击X射线靶56而产生X射线。而且，经由电子撞击而从X射线靶56所产生的X射线，是穿透X射线穿透窗54而放射至密封件55的外部。