[发明专利]磁记录介质的制造方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种磁记录介质的制造方法及装置。

背景技术

近年，磁存储装置被安装在个人计算机、录像机、数据服务器等各种各样的产品中，其重要性日益增加。磁存储装置是一种具有通过进行磁记录来保存电子数据的磁记录介质的装置，例如，可包括磁盘装置、可挠性（软）盘装置、磁带装置等。磁盘装置例如可包括硬盘驱动器（ＨＤＤ：Hard Disk Drive）等。

一般的磁记录介质具有多层膜积层结构，该多层膜积层结构例如可通过在非磁性基板上按底层（或基层）、中间层、磁记录层、及保护层的顺序进行成膜，然后在保护层的表面涂敷润滑层而形成。为了防止杂物（不纯物）等混入磁记录介质的各层之间，在磁记录介质的制造中使用了一种可在减压下连续地对各层进行积层的串列式（Inline）真空成膜装置（例如，参照专利文献1）。

在串列式真空成膜装置中，具有可在基板上进行成膜的成膜单元的多个（本文指2个以上）成膜室、进行加热处理的加热室、及预备室等一起介由闸阀（Gate Valve）连接，形成了一条成膜线。在搬运单元上安装（安放）基板并使其通过成膜线的过程中，基板上可形成预定层的膜，据此，可制成预期的磁记录介质。

一般而言，成膜线被配置为环状，成膜线上具有基板装卸室，用于将基板安装至搬运单元或从搬运单元上进行拆卸。在成膜室间绕了一圈的搬运单元进入基板装卸室，从搬运单元上拆下成膜后的基板，并在成膜后的基板被拆下了的搬运单元内再安装新的基板。

另外，作为在磁记录介质的表面形成润滑层的方法，提出了一种在真空成膜容器内载置磁记录介质，并在成膜容器内导入气化润滑剂的汽相润滑（Vapor-Phase Lubrication）成膜方法（例如，参照专利文献2）。

如上所述，在串列式真空成膜装置中制造具有多层膜积层结构的磁记录介质的情况下，例如，形成磁记录层时使用基于溅射法（Sputtering Method）的真空成膜装置；形成保护层时使用基于离子束法的真空成膜装置；形成润滑层时使用基于汽相润滑成膜法的真空成膜装置。据此，能够以不使被积层体与大气接触的方式来进行从磁记录层至润滑层的形成过程（或称“成膜步骤”），这样，就可以防止杂物从大气混入各层之间。

但是，在被积层体上连续地形成磁记录层、保护层、及润滑层的串列式真空成膜装置中，保护层的形成过程中所使用的处理气体与润滑层的形成过程中所使用的处理气体的物性之间存在着很大的差异，这些处理气体混合后，会对这两个形成过程中所形成的层产生很大的恶劣影响，导致所形成的层的质量（或称“膜质”）下降。

因此，为了防止物性不同的处理气体混合后所导致的层的质量下降，例如，希望在保护层成膜后，可以充分地排出成膜容器内的处理气体。但是，为了充分地排出成膜容器内的处理气体，就要充分地增加排气时间，这会使串列式真空成膜装置的生产性显著下降。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1](日本)特开平8－274142号公报

[专利文献2](日本)特开2004－002971号公报

发明内容

[发明要解决的课题]

在基于现有的串列式真空成膜装置的磁记录介质的制造方法中，所形成的层的质量下降的防止和生产性的提高这两方面难以同时进行。

因此，本发明的目的在于，提供一种磁记录介质的制造方法及装置，既可以防止所形成的层的质量下降，又可以提高生产性。

[用于解决课题的手段]

根据本发明的一方面，提供一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法，其中：将由成膜装置形成了所述保护层后的所述被积层体不与大气接触地封入移送容器单元内；将所述移送容器单元搬送至汽相润滑成膜装置；及、将被封入了所述移送容器单元内的所述积层体不与大气接触地从所述移送容器单元内取出，在所述汽相润滑成膜装置内采用汽相润滑成膜方法在所述被积层体上形成所述润滑层。

[发明的效果]

根据所公开的磁记录介质的制造方法及装置，既可以防止所形成的层的质量下降，又可以提高生产性。

附图说明

[图1]表示本发明的一个实施方式的磁记录介质的制造装置的一个例子的模式图。

[图2]表示由图1所示的制造装置所制造的磁记录介质的一个例子的截面图。

[图3]表示具有基于本实施方式的磁记录介质的磁存储装置的结构的一个例子的立体图。

[符号说明]

1    磁记录介质