[发明专利]感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件

说明书

技术领域

本发明涉及一种感光性树脂组成物，特别是涉及一种感光性树脂组成物、由此感光性树脂组成物所形成的断面形状佳且线膨胀系数低的保护膜，及具有该保护膜的元件。 

背景技术

在液晶显示元件或固态成像装置等光学元件的制造过程中，必须通过在严苛条件下进行的处理编程，例如在基板表面形成配线电极层时，除需通过酸性溶剂或碱性溶液浸泡，或溅镀(Sputtering)等处理编程外，更会有局部高温伴随产生。为防止制造时受到损害，必须在元件表面上铺设保护膜。 

保护膜除了能抵御上述处理编程的严苛条件，还需要与基板间保持优异的附着力，并具有高透明度、高表面硬度且平滑的表面，以及高耐热性与耐光性，使保护膜于长期使用下不会有变色、黄化或白化等变质情况发生。此外，该保护膜还需要具有良好的耐水性、耐化性、耐溶剂性、耐酸性，及耐碱性等特性。 

JP2001-354822公开一种适用于形成保护膜的感放射线性树脂组成物，包含[A]由不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含有环氧基的不饱和化合物、顺丁烯二酰亚胺系单体，及其他烯烃系不饱和化合物形成的共聚物，与[B]1,2-二叠氮化合物；其中，基于[A]为100重量份，[B]的使用量为5至100重量份。该树脂组成物具有较高的感度，所形成的保护膜具备良好耐热性及耐溶剂性，但却有断面形状不佳、线膨胀系数高的问题，导致配线电极层难以精准铺设，且造成元件受损。 

由上述可知，为防止光学元件于制造时受到损伤，并考量后续配线电极层的铺设，有必要发展一种适用于形成具有断面形状佳及线膨胀系数低等优点的保护膜的感光性树脂组成物。 

发明内容

本发明的第一目的，在于提供一种感光性树脂组成物，其所形成的保护膜具备适于后续制程的断面形状及低线膨胀系数。本发明感光性树脂组成物，包含碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含2个以上硫醇基的倍半硅氧烷(C)，及溶剂(D)。其中，该含2个以上硫醇基的倍半硅氧烷(C)是硅烷材料的水解缩合产物，该硅烷材料包括具有式(I)结构的含硫醇基的硅烷； 

R^aSi(OR^b)₃   (I) 

式(I)中，R^a表示含硫醇基且不具有芳香环的C₁至C₈的有机基团，或含硫醇基且具有芳香环的有机基团；R^b表示氢、C₁至C₆的烷基、C₁至C₆的酰基，或C₆至C₁₅的芳香基，多个R^b各自为相同或不同。 

本发明感光性树脂组成物，所述碱可溶性树脂(A)由不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)、含环氧基的不饱和化合物(a2)，及其他不饱和化合物(a3)共聚合而得。 

本发明感光性树脂组成物，基于碱可溶性树脂(A)的总量为100重量份，邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为10至50重量份；含2个以上硫醇基的倍半硅氧烷(C)的使用量为0.5至20重量份；溶剂(D)的使用量为100至800重量份。 

本发明感光性树脂组成物，所述硅烷材料还包括交联性化合物，所述交联性化合物是至少一种选自由下列所构成的组的化合物：单烷氧基硅烷、二烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷、四烷 氧基硅烷、四烷氧基钛，及四烷氧基锆。 

本发明的第二目的，在于提供一种断面形状佳且线膨胀系数低的保护膜。 

于是，本发明保护膜，是将如前所述的感光性树脂组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成的。 

本发明的第三目的，在于提供一种具有保护膜的元件。 

本发明具有保护膜的元件，包含基材以及形成于所述基材上的如上所述的保护膜。 

本发明的有益效果在于：本发明感光性树脂组成物通过添加所述含2个以上硫醇基的倍半硅氧烷(C)，形成断面形状佳且线膨胀系数低的保护膜。 

附图说明

图1是一示意图，说明应用例及应用比较例具有图样的保护膜的断面形状； 

图2是一示意图，说明应用例及应用比较例具有图样的保护膜的断面形状； 

图3是一示意图，说明应用例及应用比较例具有图样的保护膜的断面形状；及 

图4是一示意图，说明应用例及应用比较例具有图样的保护膜的断面形状。 

具体实施方式