[发明专利]多层有序多孔碳材料及其制备方法无效
申请号: | 201310414557.5 | 申请日: | 2013-09-12 |
公开(公告)号: | CN103482603A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 米丛波;赵今;祖丽呼玛·阿热甫江;钱雅婧;胡明华;潘旭;聂晶 | 申请(专利权)人: | 新疆医科大学第一附属医院 |
主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02;H01G11/44;H01G11/24 |
代理公司: | 乌鲁木齐合纵专利商标事务所 65105 | 代理人: | 汤建武;汤洁 |
地址: | 830011 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层 有序 多孔 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种多层有序多孔碳材料,其特征在于按下述方法得到:第一步,将废弃的牙科藻酸盐印模切成小块得到藻酸盐印模块;第二步,将藻酸盐印模块在惰性气体的保护下,升温至850℃至950℃后,进行炭化,炭化后得到炭化混合物;第三步,将炭化混合物研磨成粉末状混合物,然后将粉末状混合物分散在盐酸溶液中进行盐酸刻蚀,以除去物料中的钙离子、镁离子和铁离子,盐酸刻蚀至物料经过过滤、水洗后物料中的氯离子、钙离子、镁离子和铁离子的质量均含量低于0.5%;第四步,将经过盐酸刻蚀并过滤、水洗后的物料加入到氢氟酸溶液中继续进行氢氟酸酸刻蚀以除去物料中的硅离子,氢氟酸刻蚀至物料经过过滤、水洗后物料中的氟离子和硅离子的质量均含量低于0.5%;第五步,将经过氢氟酸刻蚀并过滤、水洗后的物料干燥至物料的质量含水量为0.05%至0.1%,接着将经过干燥后的物料研磨成粉末状的物料得到多层有序多孔碳材料。
2.根据权利要求1所述的多层有序多孔碳材料,其特征在于第一步中,将废弃的牙科藻酸盐印模切成3 cm3至6 cm3的藻酸盐印模块。
3.根据权利要求1或2所述的多层有序多孔碳材料,其特征在于第一步中,先将废弃的牙科藻酸盐印模干燥至质量含水量为1%至5%后,再切成小块得到藻酸盐印模块。
4.根据权利要求1或2或3所述的多层有序多孔碳材料,其特征在于第二步中,将藻酸盐印模块在惰性气体的保护下按照5℃/min至10℃/min的升温速率升温至850℃至950℃。
5.根据权利要求1或2或3或4所述的多层有序多孔碳材料,其特征在于第三步中,盐酸刻蚀所用的盐酸溶液的浓度为1mol/L 至4mol/L;或/和,第四步中,氢氟酸刻蚀所用的氢氟酸溶液的质量浓度为10%至40%。
6.一种多层有序多孔碳材料的制备方法,其特征在于按下述步骤进行:第一步,将废弃的牙科藻酸盐印模切成小块得到藻酸盐印模块;第二步,将藻酸盐印模块在惰性气体的保护下,升温至850℃至950℃后,进行炭化,炭化后得到炭化混合物;第三步,将炭化混合物研磨成粉末状混合物,然后将粉末状混合物分散在盐酸溶液中进行盐酸刻蚀,以除去物料中的钙离子、镁离子和铁离子,盐酸刻蚀至物料经过过滤、水洗后物料中的氯离子、钙离子、镁离子和铁离子的质量均含量低于0.5%;第四步,将经过盐酸刻蚀并过滤、水洗后的物料加入到氢氟酸溶液中继续进行氢氟酸酸刻蚀以除去物料中的硅离子,氢氟酸刻蚀至物料经过过滤、水洗后物料中的氟离子和硅离子的质量均含量低于0.5%;第五步,将经过氢氟酸刻蚀并过滤、水洗后的物料干燥至物料的质量含水量为0.05%至0.1%,接着将经过干燥后的物料研磨成粉末状的物料得到多层有序多孔碳材料。
7.根据权利要求6所述的多层有序多孔碳材料的制备方法,其特征在于第一步中,将废弃的牙科藻酸盐印模切成3 cm3至6 cm3的藻酸盐印模块。
8.根据权利要求6或7所述的多层有序多孔碳材料的制备方法,其特征在于第一步中,先将废弃的牙科藻酸盐印模干燥至质量含水量为1%至5%后,再切成小块得到藻酸盐印模块。
9.根据权利要求6或7或8所述的多层有序多孔碳材料的制备方法,其特征在于第二步中,将藻酸盐印模块在惰性气体的保护下按照5℃/min至10℃/min的升温速率升温至850℃至950℃。
10.根据权利要求6或7或8或9所述的多层有序多孔碳材料的制备方法,其特征在于第三步中,盐酸刻蚀所用的盐酸溶液的浓度为1mol/L 至4mol/L;或/和,第四步中,氢氟酸刻蚀所用的氢氟酸溶液的质量浓度为10%至40%。
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