[发明专利]TiO2/SnO2复合纳米棒电阻开关的制备方法有效
申请号: | 201310351613.5 | 申请日: | 2013-08-13 |
公开(公告)号: | CN103400937A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 李长明;孙柏;谷爽 | 申请(专利权)人: | 西南大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24;B82Y10/00;B82B3/00 |
代理公司: | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人: | 赵荣之 |
地址: | 400715*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | tio sub sno 复合 纳米 电阻 开关 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种电阻开关的制备方法,特别涉及一种TiO2/SnO2复合纳米棒电阻开关的制备方法。
背景技术
存储器在整个IC市场中一直占有十分重要的地位。据2007年统计,全球存储器市场的销售额已经高达600亿美元,而且市场份额还在不断扩大。目前使用的存储器可以分为两类,即挥发性的随机存储器和非挥发性存储器。前者主要产品有动态随机存取存储器和静态随机存储器,数据存储速度快,但当结束供电后,所储存的资料会很快消失,因此存储的信息需要不断刷新。后者主要有ROM(只读存储器)、PROM(可编程存储器)、EEPROM(电可擦除存储器)、Flash(闪存)等,它们的存储速度相对较慢,但是具有断电后仍然能够继续保持数据的特性,已经广泛应用于各种手持终端和多媒体设备中,其中Flash已经成为最为成熟的主流的非挥发性存储器。市场调研机构Databeans指出,2009年全球Flash销售额达到194.72亿美元,占半导体产业的8.7%,预计2010年全球Flash销售额将达到254.28亿美元。
电阻开关式非挥发性存储器是基于电阻开关效应的一种存储器,结构与磁存储器相似,为导体/绝缘体/导体构成的三明治结构,但是介质层两侧不是磁性材料,而是导体材料。一般情况下,导体为金属,因此电阻式存储器的结构为导体/绝缘体/导体型结构。通过施加一定极性的电压脉冲,导体/绝缘体/导体结构中绝缘层的电阻可以在高阻态和低阻态之间转换,由此实现信息的存储。
电阻式存储器具有存储密度高,读写速度快,结构相对简单等优点。另外,电阻式存储器的制作工艺与传统的CMOS工艺的兼容性很好,容易实现大批量、低成本生产制造。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种TiO2/SnO2复合纳米棒电阻开关的制备方法,制备的TiO2/SnO2复合纳米棒阵列结构的电阻开关能够实现较高比率的开关性能,并且在低温下拥有更优良的性能,而且循环寿命长。
本发明的TiO2/SnO2复合纳米棒电阻开关的制备方法,包括以下步骤:
1)通过水热法在导电基片上直接生长TiO2/SnO2复合纳米棒阵列;
2)将步骤1)得到的生长有TiO2/SnO2复合纳米棒阵列的导电基片在200~800℃下退火1~5小时,得到TiO2/SnO2复合纳米棒电阻开关。
进一步,所述步骤1)中,通过水热法在导电基片上直接生长TiO2/SnO2复合纳米棒阵列的具体方法为:按照1:1的摩尔比称取钛酸四异丙酯和SnCl4·5H2O溶于去离子水中,并加入盐酸,搅拌配成混合溶液;然后将导电基片插入到混合溶液中,在100~300℃下水热反应1~5小时,得到生长有TiO2/SnO2复合纳米棒阵列的导电基片。
进一步,所述步骤1)中,水热反应温度为180℃,反应时间为3小时。
进一步,所述步骤2)中,退火温度为450℃,退火时间为2小时。
进一步,所述导电基片为FTO导电玻璃。
本发明的有益效果在于:本发明利用水热法在导电基片上生长TiO2/SnO2复合纳米棒阵列,进一步利用了高温退火的方法,有效提高了TiO2和SnO2的结晶程度,同时使TiO2和SnO2可以形成大量的氧空洞,形成空穴和具有良好传输电子的独特物理性质,由于TiO2和SnO2的带隙交错且相差不大,这种交错的带隙,不但可以有效减少空穴与电子的复合,而且可以大大地增加电子在带隙之间的跃迁机率;因此,本发明制备的TiO2/SnO2复合纳米棒阵列结构的电阻开关能够实现较好的室温电阻开关特性,并且在低温下有更大的电阻开关效应,而且循环稳定性良好,能够用于制备电阻开关式非挥发性存储器的原始模型。
附图说明
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