[发明专利]计算以多磁为基础的设备及最佳化问题的解决方案的方法有效

专利信息
申请号: 201310351404.0 申请日: 2013-08-13
公开(公告)号: CN103593497B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 本塔旭·本汉艾影 申请(专利权)人: 格罗方德半导体公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司11314 代理人: 程伟,王锦阳
地址: 英属开曼群*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 计算 基础 设备 最佳 问题 解决方案 方法
【权利要求书】:

1.一种设备,包括:

第一磁体;

第二磁体;以及

互连件,介于该第一磁体和该第二磁体之间并互连该第一磁体和该第二磁体,该互连件组构成允许该第一磁体和该第二磁体经过施加到该第一磁体和该第二磁体的电压或电流及藉由该互连件的导通而沟通。

2.根据权利要求1所述的设备,其中,该第一磁体和该第二磁体是奈米磁体。

3.根据权利要求2所述的设备,其中,该第一磁体和该第二磁体具有藉由磁化该第一磁体和该第二磁体而达到的叠加状态,以及其中该第一磁体和该第二磁体的磁化藉由脉冲媒介而沿该第一磁体和该第二磁体的个别中间轴而施加。

4.根据权利要求3所述的设备,其中,该第一磁体和该第二磁体经过自旋极化电流、自旋波、或磁壁而沟通,且该脉冲媒介是外部磁场、自旋转移转矩效应或磁化的电压诱发旋转。

5.根据权利要求3所述的设备,其中,该第一磁体和该第二磁体具有可在该第一磁体和该第二磁体磁化后达到的松弛状态。

6.根据权利要求5所述的设备,其中,该第一磁体和该第二磁体的该松弛状态以已知机率及基于施加到该第一磁体和该第二磁体的该电压或该电流的极性和幅度而达到。

7.根据权利要求5所述的设备,其中,若施加到该第一磁体和该第二磁体的该电压或该电流具有负极性,则该松弛状态是铁磁性序化,以及若施加到该第一磁体和该第二磁体的该电压或该电流具有正极性,则该松弛状态是抗铁磁性序化。

8.根据权利要求1所述的设备,其中,该第一磁体和该第二磁体之间的沟通是基于施加到该第一磁体和该第二磁体的该电压或该电流的该极性和该幅度而可调整。

9.一种方法,包括:

藉由互连件电性耦合第一磁体和第二磁体;

施加电压或电流至该第一磁体和该第二磁体;以及

将该互连件组构成允许该第一磁体和该第二磁体沟通,以响应该电压或该电流。

10.根据权利要求9所述的方法,进一步包括沿该第一磁体和该第二磁体的个别中间轴磁化该第一磁体和该第二磁体至叠加状态,以及松弛该第一磁体和该第二磁体至基于施加到该第一磁体和该第二磁体的极性和幅度的状态。

11.根据权利要求10所述的方法,包括藉由使该第一磁体和该第二磁体经受外部磁场、自旋转移转矩、或电压诱发旋转而磁化该第一磁体和该第二磁体。

12.根据权利要求10所述的方法,其中,该第一磁体和该第二磁体经过藉由施加到该第一磁体和该第二磁体的该电压或该电流所产生的自旋极化电流、自旋波、或磁壁而沟通。

13.根据权利要求10所述的方法,其中,该第一磁体和该第二磁体具有在该第一磁体和该第二磁体磁化后以已知机率达到的松弛状态。

14.根据权利要求10所述的方法,包括施加具有负极性的电压或电流及松弛该第一磁体和该第二磁体至铁磁性序化。

15.根据权利要求10所述的方法,包括施加具有正极性的电压或电流及松弛该第一磁体和该第二磁体至抗铁磁性序化。

16.一种方法,包括:

以互连件电性耦合每对磁体的方式将多个磁体配置成电路架构组构;

针对每对磁体:

施加电压或电流至该两个磁体;以及

沿该两个磁体的个别中间轴磁化该两个磁体至叠加状态。

17.根据权利要求16所述的方法,包括藉由施加外部磁场、自旋转移转矩效应、或电压诱发磁化旋转以磁化每对磁体。

18.根据权利要求16所述的方法,进一步包括基于施加于该每对磁体的该电压或该电流的极性和幅度而松弛该每对磁体至最终状态,且用于至少一对磁体的该最终状态是以已知机率而达到。

19.根据权利要求18所述的方法,包括藉由施加具有负极性的电压或电流而松弛该每对磁体至铁磁性序化的最终状态。

20.根据权利要求18所述的方法,包括藉由施加具有正极性的电压或电流而松弛每对磁体至抗铁磁性序化的最终状态。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格罗方德半导体公司,未经格罗方德半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310351404.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top