[发明专利]一种基于位置传感器的光刻机掩模预对准系统

权利要求书

1.一种光刻机掩模预对准系统，包括：

照明部件，具有预对准标记的掩模板，其特征在于：

相应于所述预对准标记的位置传感装置，所述照明部件照射所述预对准标记，所述位置传感装置采集所述预对准标记被照明部件照亮后产生的光斑，并输出代表所述预对准标记位置信息的电流值，根据该电流值运算出所述掩模板的水平位置与旋转角度信息，其水平预对准位置精度小于等于50nm；其中

所述位置传感装置包括：位置传感器、信号放大器和信号处理器，所述信号放大器接受所述位置传感器输出的电流值，经信号放大后交信号处理器，所述信号处理器进行运算后，进而得出所述掩模板的位置信息，且在所述位置传感器上方分别放置了具有放大倍率的双远心光学成像镜头；

所述具有预对准标记的掩模板具有左右至少各1个预对准标记，左预对准标记与右预对准标记具有相同的形状和尺寸；

所述信号处理器进行信号运算后，得出所述掩模板以X轴为基准的旋转角度为(Y1-Y2)/L，所述掩模板的X向位置为(X1+X2)/2，所述掩模板的Y向位置为(Y1+Y2)/2，其中L为所述左预对准标记与所述右预对准标记之间的距离，(X1，Y1)为所述左预对准标记的坐标，(X2，Y2)为所述右预对准标记的坐标。

2.根据权利要求1所述的光刻机掩模预对准系统，其特征在于：所述照明部件具有光源和准直透镜。

3.根据权利要求1所述的光刻机掩模预对准系统，其特征在于：所述位置传感装置包括位置传感器，所述照明部件和所述位置传感器的数量根据所述预对准标记的数量来配备。

4.根据权利要求1所述的预对准系统，其特征在于：所述位置传感器为PSD位置传感器。

5.一种光刻机掩模预对准系统进行预对准的方法，步骤包括：

开启左右照明部件；

所述左右照明部件中的光源均被点亮，出射光斑分别照亮掩模板上的左右预对准标记；

所述左右预对准标记被照明后形成的左右标记光斑分别投射到左右位置传感器的探测面上；

左位置传感器输出代表左预对准标记的X向位置的电流Ix1与Y向位置的电流Iy1；右位置传感器输出代表右预对准标记的X向位置的电流Ix2与Y向位置的电流Iy2；

信号放大器将Ix1与Iy1进行放大，得出精确的左预对准标记位置值X1与Y1；

所述信号放大器将Ix2与Iy2进行放大，得出精确的右预对准标记位置值X2与Y2；

信号处理器根据所述信号放大器提供的数据，进行信号运算，得出所述掩模板以X轴为基准的旋转角度，所述掩模板的X向位置和Y向位置预对准位置精度小于等于50nm；其中

所述位置传感装置包括位置传感器、信号放大器和信号处理器，所述信号放大器接受所述位置传感器输出的电流值，经信号放大后交信号处理器，所述信号处理器进行运算后，进而得出所述掩模板的位置信息，且在所述位置传感器上方分别放置了具有放大倍率的双远心光学成像镜头；

所述信号处理器进行信号运算后，得出所述掩模板以X轴为基准的旋转角度为(Y1-Y2)/L，所述掩模板的X向位置为(X1+X2)/2，所述掩模板的Y向位置为(Y1+Y2)/2，其中L为所述左预对准标记与所述右预对准标记之间的距离，(X1，Y1)为所述左预对准标记的坐标，(X2，Y2)为所述右预对准标记的坐标。