[发明专利]一种研磨器用陶瓷磨头材料有效
申请号: | 201310325219.4 | 申请日: | 2013-07-30 |
公开(公告)号: | CN103387385A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 张国平 | 申请(专利权)人: | 宁波厨聚厨房科技有限公司 |
主分类号: | C04B35/10 | 分类号: | C04B35/10 |
代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人: | 王立民 |
地址: | 315177 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 器用 陶瓷 材料 | ||
技术领域
本发明属于厨具及陶瓷材料领域,具体是指一种用于生产厨房用研磨器用的陶瓷磨头材料组成。
背景技术
现将颗粒类调味品进行粉碎的方式基本上有三种:一种是以传统的捣碎等方式进行研磨;一种是将调味品进行大量粉碎后随时取用;再一种是根据需要量随时研磨。这三种方式中,传统方式研磨费时费力,而且捣碎的设备较大,使用不方便。将调味品进行大量粉碎后可以随时取用的方式,从使用上较简单,但这一方式的缺点是,当调味品被粉碎后,破坏了原调味品的防护系统,致使氧化反应加快,容易使调味品降低或失去其功效。为了改变上述两种调味品粉碎方式的缺点,现在随用随磨的一种手动研磨器被广泛使用。而且这一装置的体积小,使用方便,能够直接放置于餐桌上,根据个人的口味而自行研磨调味品。
现使用的手动研磨器基本上包括以下几个部分,壳体,用于容纳颗粒类调味品,安装于壳体上的研磨器,研磨器一般包括有内磨削头、外磨削头及盖体等。根据使用的方式不同,可以分为内磨削头转动型和外磨削头转动型研磨器。在研磨器也有根据需要对研磨器粉碎调味品的颗粒粒度进行调节的装置,以及用于卫生的盖体等结构。可以说,现所有的这类手动研磨器不仅实现了随用随磨的功能,而且增加了饮食的乐趣。
现用于制造研磨器磨头的材料有金属或高强度塑料,也有技术考虑使用石材,但是石材的强度并不高而且易裂无法真正投入使用。金属磨头的强度尚可,但是耐化学腐蚀性差,若有一段时间不使用就会有锈蚀现象。高强度塑料也可以做为磨头使用,但是其耐磨性差,使用一段时间后,磨头间的间隙增加,使得更换磨头的频率较高。
针对这一问题,现有技术提出使用陶瓷来做为磨头材料,但因为陶瓷的延展性差,必须在模具过程中完成组装或在进行初烧后进行组装,而要在组装过程中保证在最后烧结完成后能够保持相对转动,又能够保证间隙不大,其制造难度过大而且成本高,很难得到推广。因此,现使用的陶瓷磨头均是单面的,即只有外研磨头或内研磨头为陶瓷制造,另一面为金属或高强度塑料。
发明内容
本发明的目的是提供一种研磨器用陶瓷磨头材料,通过本材料能够克服现有的陶瓷材料的缺陷,实现外研磨头材料和内研磨材料均使用陶瓷制造,有利于研磨器陶瓷磨头的推广。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种研磨器用陶瓷磨头材料,包括有外研磨头材料和内研磨头材料;所述外研磨头材料按重量百分比组成为,纯度≥99%的氧化铝80%-90%、氧化镁5%-15%及氧化硅3%-10%;所述内研磨头材料按重量百分比组成为,纯度≥99%的氧化铝25%-45%、纯度≥94%的氧化锆45%-55%、氧化镁5%-15%及氧化硅3%-10%。
优选的,所述外研磨头材料按重量百分比组成为,纯度≥99%的氧化铝86%、氧化镁8%及氧化硅6%;所述内研磨头材料按重量百分比组成为,纯度≥99%的氧化铝32%、纯度≥94%的氧化锆53%、氧化镁7%及氧化硅8%。
进一步的,还包括有抑制剂,所述的抑制剂为饱和氢氧化钙溶液。
所述外研磨头的成模压力为420MPa-450MPa,内研磨头的成模压力为480MPa-510MPa。
本发明的有益效果是:
通过本技术方案,能够实现研磨器磨头的内研磨头和外研磨头同时加工共同烧制,并且利用氧化锆陶瓷在由单斜相向四方相转变的过程中会发生体积变化,而在冷却时又会向相反方向发生体积变化的现象,而氧化铝在温度变化过程中,体积的变化可以忽略,并且在组装后其体积的变化符合最后的间隙要求。
具体实施方式
以下通过实施例来详细说明本发明的技术方案,应当理解的是,以下的实施例仅是示例性的,仅能用来解释和说明本发明的技术方案,而不能解释为是对本发明技术方案的限制。
因为磨头包括两部分,通过两部分磨片的相互配合才能实现磨碎。在本发明中所说明的外研磨头是指在研磨器的磨头外部的磨片;内研磨头是指在研磨器的磨头内部的磨片。在本申请中,所说的内部和外部是相对概念。
一种研磨器用陶瓷磨头材料,包括有外研磨头材料和内研磨头材料;所述外研磨头材料按重量百分比组成为,纯度≥99%的氧化铝80%-90%、氧化镁5%-15%及氧化硅3%-10%;所述内研磨头材料按重量百分比组成为,纯度≥99%的氧化铝25%-45%、纯度≥94%的氧化锆45%-55%、氧化镁5%-15%及氧化硅3%-10%。
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