[发明专利]照明光学装置的制造方法、照明方法、曝光方法和装置制造方法有效
申请号: | 201310320160.X | 申请日: | 2008-09-10 |
公开(公告)号: | CN103488056A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 谷津修 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁 |
地址: | 日本东京都千代*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明 光学 装置 制造 方法 曝光 | ||
1.一种照明光学装置的制造方法,所述照明光学装置具备:为了以照明光照明设置于掩模的图案而配置在所述照明光的光学路径的光学积分器,以及配置在所述光学积分器的入射侧的所述光学路径的第一光学系统,其特征在于包括:
将第二光学系统与所述第一光学系统进行交换,所述第二光学系统不同于所述第一光学系统;
所述第一光学系统具备空间光调制器与衍射光学元件中的一个;以及
所述第二光学系统具备所述空间光调制器与所述衍射光学元件中的另一个。
2.根据权利要求1所述的照明光学装置的制造方法,其特征在于其中
使所述第二光学系统从所述光学路径缩回;以及
将所述第一光学系统插入所述光学路径。
3.根据权利要求2所述的照明光学装置的制造方法,其特征在于其中
将所述第一光学系统的所述空间光调制器或所述衍射光学元件配置在所述光学路径中相对于所述照明光学装置的照明光瞳实质上光学共轭的位置。
4.根据权利要求2所述的照明光学装置的制造方法,其特征在于其中
将所述第一光学系统的所述空间光调制器或所述衍射光学元件配置在所述光学路径中相对于所述光学积分器的入射表面建立实质上傅立叶变换关系的位置。
5.根据权利要求1所述的照明光学装置的制造方法,其特征在于其中所述空间光调制器包括沿着与所述光学路径交叉的平面而配置的多个镜面元件,和能够个别地变更所述多个镜面元件的姿势的驱动部。
6.根据权利要求5所述的照明光学装置的制造方法,其特征在于其中
所述空间光调制器反射前述照明光,而在所述照明光学装置的照明光瞳上形成对应所述多个镜面元件的姿势的光强度分布。
7.根据权利要求1所述的照明光学装置的制造方法,其特征在于其中
所述照明光学装置具备有反射镜,所述反射镜用于设定至所述空间光调制器的所述照明光的入射角度。
8.根据权利要求1所述的照明光学装置的制造方法,其特征在于其中
所述照明光学装置具备有反射镜,所述反射镜用于弯曲所述光学路径;
所述反射镜及所述空间光调制器以使相对于所述反射镜及所述空间光调制器构成的组的入射侧的前述光学路径与出射侧的前述光学路径平行的方式而配置。
9.根据权利要求1所述的照明光学装置的制造方法,其特征在于其中
所述衍射光学元件衍射所述照明光而在所述照明光学装置的照明光瞳上形成预定的光强度分布。
10.一种照明方法,其特征在于其包含:
使用根据权利要求1到9中任一权利要求所述的照明光学装置的制造方法来制造照明光学装置;以及
使用所述照明装置,以照明光照明设置于掩模的图案。
11.一种曝光方法,其特征在于其包含:
使用权利要求10所述的照明方法,以照明光照明设置于掩模的图案;以及
通过所述掩模,以所述照明光对基板进行曝光。
12.一种装置的制造方法,其特征在于所述方法包含:
使用权利要求10所述的照明方法,以照明光照明设置于掩模的图案;
通过所述掩模,以所述照明光对基板进行曝光;以及
对经所述照明光曝光的所述基板进行显影。
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