[发明专利]基于二维亚像素采样的超分辨率显示方法及装置

权利要求书

1.基于二维亚像素采样的超分辨率显示方法，其特征在于：包括以下步骤：

（1）输入原始图像；

（2）对原始图像R、G、B基色分量分别进行相应的抗颜色混叠滤波；

（3）对滤波后的图像进行二维亚像素采样；

（4）输出图像。

2.根据权利要求1所述的基于二维亚像素采样的超分辨率显示方法，其特征在于，所述步骤（2）的具体方法包括：

（2.1）根据显示设备得到显示面板的R、G、B基色亚像素排布结构；

（2.2）根据R、G、B基色亚像素排布结构计算得到R、G、B基色的二维Nyquist频率限制区域；

（2.3）由R、G、B基色的二维Nyquist频率限制区域确定施加于原始图像的一组R、G、B基色抗颜色混叠滤波器；

（2.4）利用步骤（2.3）确定的一组R、G、B基色抗颜色混叠滤波器分别对原始图像R、G、B基色分量进行滤波。

3.根据权利要求2所述的基于二维亚像素采样的超分辨率显示方法，其特征在于，所述步骤（2.2）所述的二维Nyquist频率限制区域采用倒晶格理论计算得到，具体为：

（2.2.1）将某一基色的空间二维亚像素排布看成二维晶格，基色亚像素排布中每一个亚像素所在的位置为二维晶格中的一个格点；

（2.2.2）任选一个格点为原点，以二维晶格的横轴和纵轴分别为X轴和Y轴建立二维坐标系，二维坐标系内的晶格即为该基色的二维正空间晶格；

（2.2.3）根据以下公式将正空间晶格转换为倒空间晶格：

ai·bj=2πδij2πi=j0i≠j(i,j=1,2),]]>

上述公式中，a_i为正空间的基矢，b_j为倒空间的基矢，δ_ij是克罗内克函数，i、j是基矢的角标，分别可取值1和2，表示二维晶格正空间和倒空间各有两个基矢；

（2.2.4）所述二维Nyquist频率限制区域为：倒空间晶格中，由原点所在格点出发，到周围所有其他格点作连接线，这些连接线的中垂线所围绕而成的最小封闭区域。

4.根据权利要求2所述的基于二维亚像素采样的超分辨率显示方法，其特征在于，所述步骤（2.3）所述的由R、G、B基色的二维Nyquist频率限制区域确定施加于原始图像的一组R、G、B基色抗颜色混叠滤波器，具体为：

R/G/B基色抗颜色混叠滤波器为低通滤波器，频域下，该低通滤波器的截止频率形状与该基色的Nyquist频域限制区域相似，大小接近并小于该基色的Nyquist频域限制区域。

5.根据权利要求1所述的基于二维亚像素采样的超分辨率显示方法，其特征在于，所述步骤（3）具体包括以下步骤：

（3.1）根据显示设备得到显示面板的R、G、B基色二维亚像素排布的空间位置结构；

（3.2）将滤波后的图像看作连续模拟图像，根据R、G、B基色亚像素的二维空间位置结构对滤波后图像相应基色分量进行采样。