[发明专利]光扫描单元和包括其的电子照相成像设备有效
申请号: | 201310312618.7 | 申请日: | 2013-07-24 |
公开(公告)号: | CN103809289A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 朴基成 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G02B26/12 | 分类号: | G02B26/12;G03G15/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 扫描 单元 包括 电子 照相 成像 设备 | ||
技术领域
本公开涉及光扫描单元和包括其的成像设备,更具体地,涉及具有改善的结构的光扫描单元和包括该光扫描单元的成像设备,该光扫描单元包括用于探测水平同步信号的同步探测系统。
背景技术
光扫描单元将从光源发射的光扫描到预定区域上,其被用于不同的设备和装置,诸如电子照相成像设备、扫描显示装置等等。
由于光扫描单元通过利用被扫描的光来形成图像,所以确定扫描的起始位置和结束位置是重要的,因此光扫描单元包括用于使图像水平地同步的同步探测系统。
例如,在电子照相成像设备诸如激光束打印机、数字影印机或多功能打印机(MFP)中,光扫描单元通过在光电导鼓上扫描光束来形成静电潜像。所形成的静电潜像通过使用显影剂诸如调色剂而被显影为显影图像,该显影图像被转印到打印介质。在这样的成像设备中,如果在光电导鼓上被扫描的光束的扫描位置关于每一扫描行而不同,则发生图像偏移,而颜色彼此交叠以形成彩色图像的位置被移动。因此,为了实现高分辨率图像,需要使得扫描开始位置在计时上的变化最小化的同步探测系统。
发明内容
附加的方面和/或优点将在随后的描述中部分地阐述,并且部分地由该描述而显见,或者可以通过本发明的实践而习之。
本公开提供了一种光扫描单元和包括该光扫描单元的成像设备,在该光扫描单元中减小了由于光偏转器的光偏转表面的表面塌陷而导致的扫描开始位置的变化。
根据一个方面,提供了一种光扫描单元,其包括:光源,根据图像信号发射光束;光偏转器,偏转和扫描从光源发射的光束;以及同步探测光学系统,包括通过接收被光偏转器偏转和扫描的光束的一部分来探测同步信号的同步探测传感器和设置在光偏转器与同步探测传感器之间的同步探测透镜,其中同步探测透镜是变形透镜,在该变形透镜中在第一方向上的折射能力和在不同于第一方向的第二方向上的折射能力是不同的,其中同步探测透镜的第一方向关于主扫描方向倾斜,入射到同步探测透镜上的光束在该主扫描方向上被扫描。
当沿着正交于主扫描方向的辅扫描平面观看时,从光源发射的光束可以倾斜地入射到光偏转器的偏转表面上。同步探测透镜的第一方向与主扫描方向之间的角△θ可以通过分别在主扫描方向和辅扫描方向上行进到同步探测透镜的光束关于光偏转器的入射角α和入射角β而被确定,该角△θ独立于光偏转器的表面塌陷的程度。
同步探测透镜的第一方向与主扫描方向之间的角△θ可以大于在辅扫描方向上光束关于光偏转器的入射角β。
同步探测透镜的第一方向与主扫描方向之间的角△θ可以通过以下等式表示:
<等式>
Δθ=arctan(tanα·tanβ)。
同步探测传感器可以具有矩形的探测表面,该探测表面的宽度方向可以以由以上等式表示的角△θ倾斜。
在辅扫描方向上光束关于光偏转器的入射角β可以在0至10度的范围内。在辅扫描方向上光束关于光偏转器的入射角β可以在2至4度的范围内。
在同步探测透镜的第一方向与主扫描方向之间的角△θ可以在3至20度的范围内。
同步探测传感器可以具有矩形的探测表面,该探测表面的宽度方向关于主扫描方向倾斜。同步探测透镜的第一方向和探测表面的宽度方向可以彼此平行。备选地,探测表面的宽度方向可以关于主扫描方向倾斜。
同步探测透镜的第一方向可以正交于同步探测透镜的光轴,同步探测透镜的第二方向可以正交于同步探测透镜的光轴和第一方向两者。
同步探测透镜在第二方向上的折射能力可以大于同步探测透镜在第一方向上的折射能力。同步探测透镜可以通过在第二方向上的折射能力而在辅扫描方向上使光束成像在同步探测传感器的探测表面上。
当沿着正交于主扫描方向的辅扫描平面观看时,同步探测光学系统可以具有关于光偏转器的偏转表面和同步探测传感器的探测表面的结合关系。
变形透镜的至少一个外表面可以正交于主扫描方向,变形透镜的第一方向可以关于正交于主扫描方向的该至少一个外表面倾斜。变形透镜的至少一个外表面可以正交于第一方向,正交于第一方向的该至少一个外表面可以关于主扫描方向倾斜。
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