[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备

说明书

技术领域

本发明涉及电子照相感光构件并涉及各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

背景技术

现在，含有有机光电导性物质的电子照相感光构件是用于处理盒和电子照相设备的电子照相感光构件的主流。通常，电子照相感光构件包括支承体和形成在支承体上的感光层。为抑制从支承体侧至感光层侧的电荷注入并抑制起雾等图像缺陷的发生，在支承体和感光层之间设置底涂层。

近年来，已使用具有较高感光度的电荷产生物质。然而，存在电荷产生物质的较高感光度导致更大量电荷产生的问题；因此，电荷易于滞留在感光层中，从而容易导致重影。具体地，易于发生其中仅在对应于前次旋转时用光照射部分的输出图像的部分的浓度增加的现象，即正重影现象。

作为抑制(减少)此类重影现象的技术，已知将电子输送物质引入底涂层中的技术。在将电子输送物质引入底涂层中以免在底涂层上形成感光层时溶出电子输送物质的情况下，已知使用由难溶于感光层涂布液的溶剂的固化性材料组成的底涂层的技术。

PCT日文翻译专利公开2009-505156号公报公开了一种底涂层，其包含具有芳族四羰基双酰亚胺骨架和交联位点的缩合聚合物(电子输送物质)并且其包含与交联剂的聚合物的底涂层。日本专利特开2003-330209和2008-299344号公报公开一种底涂层，其包含具有不可水解的可聚合官能团的电子输送物质的聚合物。

近年来，电子照相图像已要求具有更好的图像品质，因此对上述正重影的容许度已经变得非常严格。

本发明人已经进行研究并发现，关于正重影特别地是在连续图像输出前后正重影的水平变化的抑制(减少)，PCT日文翻译专利公开2009-505156号公报和日本专利特开2003-330209与2008-299344号公报中公开的技术仍有改进的空间。在PCT日文翻译专利公开2009-505156号公报和日本专利特开2003-330209与2008-299344号公报公开的技术中，有时在初期和重复使用时正重影未充分减少。

发明内容

本发明的方面提供减少正重影的电子照相感光构件和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒与电子照相设备。

本发明的一个公开方面提供一种电子照相感光构件，其包括支承体、形成在支承体上的底涂层和形成在底涂层上的感光层，其中所述底涂层包括由下式(C1)表示的结构或由下式(C2)表示的结构，

其中，在式(C1)和(C2)中，R¹¹至R¹⁶、和R²²至R²⁵各自独立地表示氢原子、亚甲基、由-CH₂OR²表示的一价基团、由下式(i)表示的基团或由下式(ii)表示的基团，R¹¹至R¹⁶的至少一个和R²²至R²⁵的至少一个各自为由式(i)表示的基团，R¹¹至R¹⁶的至少一个和R²²至R²⁵的至少一个各自为由式(ii)表示的基团，R²表示氢原子或具有1至10个碳原子的烷基，和R²¹表示烷基、苯基或被烷基取代的苯基，

其中，在式(i)中，R⁶¹表示氢原子或烷基，Y¹表示单键、亚烷基或亚苯基，D¹表示由下式(D1)至(D4)的任一个表示的二价基团，和式(i)中的“*”表示键合式(C1)中的氮原子或式(C2)中的氮原子的一侧，