[发明专利]一种基于双活塞阀体的水处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种水处理装置，具体涉及一种基于双活塞阀体的水处理装置。

背景技术

阀体作为软化、过滤阀的流道机构，对流道的切换起着关键性的作用，现有的大型工业软化水装置中，每小时的最大的产水量是一定的，如果要提高产水量只能通过多阀组建系统来达到需要，很是麻烦，同时现有的单活塞阀体在再生时排污口会有未处理过的液体流出，达不到高场合的要求。

发明内容

发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种基于双活塞阀体的水处理装置，通过双活塞阀体提高了每小时的最大产水量，同时也解决了排污口会有未处理过的液体流出的问题。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：

一种基于双活塞阀体的水处理装置，包括上阀体、下阀体和处理槽，所述上阀体固定在下阀体上，所述下阀体固定在处理槽上，所述上阀体和下阀体的内腔中均设有活塞和密封垫，所述活塞和密封垫匹配，所述上阀体的侧壁上设有过滤流道、吸盐流道、再生流道、排污流道、第一连通流道和第二连通流道，所述再生流道、第一连通流道和第二连通流道与下阀体的内腔相通，所述下阀体的侧壁上还设有出水口、进水口、侧流道和中心流道，所述侧流道和中心流道与处理槽相通，所述中心流道延伸至处理槽底部。

所述密封垫间隔设置，所述上阀体的密封垫包括第一上密封垫、第二上密封垫、第三上密封垫、第四上密封垫、第五上密封垫和第六上密封垫，所述下阀体的密封垫包括第一下密封垫、第二下密封垫、第三下密封垫和第四下密封垫。

所述排污流道位于第三上密封垫和第四上密封垫之间，所述过滤流道位于第四上密封垫和第五上密封垫之间，所述吸盐流道位于第五上密封垫和第六上密封垫之间，所述第一连通流道在上阀体内的端口位于第四上密封垫和第五上密封垫之间，在下阀体内的端口位于第三下密封垫和第四下密封垫之间，所述第二连通流道在上阀体内的端口位于第二上密封垫和第三上密封垫之间，在下阀体内的端口位于第二下密封垫和第三下密封垫之间，所述出水口位于第一下密封垫和第二下密封垫之间，所述中心流道位于第二下密封垫和第三下密封垫之间，所述侧流道位于第三下密封垫和第四下密封垫之间，所述进水口为下阀体内腔的端口，所述再生流道在上阀体内的端口为上阀体内腔的端口，在下阀体的端口位于第四下密封垫与进水口之间。

所述活塞均为管状结构，所述活塞外侧壁上设有环形凹台。所述活塞与密封垫配合形成不同流道。

有益效果：本发明通过一个上阀体和一个下阀体组合成一个带有双活塞的阀体，上阀体负责再生控制，下阀体负责工作和再生的切换，不仅提高了每小时的最大产水量，同时排污口也不会有未处理过的液体流出。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作更进一步的说明。

如图1所示：一种基于双活塞阀体的水处理装置，包括上阀体1、下阀体2和处理槽3，所述上阀体1固定在下阀体2上，所述下阀体2固定在处理槽3上，所述上阀体1和下阀体2的内腔中均设有活塞和密封垫，所述活塞和密封垫匹配，所述上阀体1的侧壁上设有过滤流道8、吸盐流道7、再生流道9、排污流道13、第一连通流道10和第二连通流道11，所述再生流道9、第一连通流道10和第二连通流道11与下阀体2的内腔相通，所述下阀体2的侧壁上还设有出水口12、进水口4、侧流道5和中心流道6，所述侧流道5和中心流道6与处理槽3相通，所述中心流道6延伸至处理槽3底部。

所述密封垫间隔设置，所述上阀体1的密封垫包括第一上密封垫101、第二上密封垫102、第三上密封垫103、第四上密封垫104、第五上密封垫105和第六上密封垫106，所述下阀体2的密封垫包括第一下密封垫201、第二下密封垫202、第三下密封垫203和第四下密封垫204。