[发明专利]双螺旋超越离合器

权利要求书

1.一种双螺旋超越离合器，包括螺旋轴（1），以及装在螺旋轴（1）上的花键轴（2）、大螺旋套（3）、小螺旋套（4）、右挡圈（9）和左挡圈（10），以及设置在大螺旋套（3）和小螺旋套（4）之间的滚珠（5）、托架（6）、弹簧（7）和螺钉（8），其特征在于：所述螺旋轴（1）上设置有大螺旋（11）以及小螺旋（12）；所述花键轴（2）在螺旋轴（1）上的轴向位置通过左挡圈（10）限制，左挡圈（10）安装于左挡圈槽（13）中，花键轴（2）内部设置有内花键（21）；所述大螺旋套（3）内部设置有大内螺旋（32）以及外部设置有外花键（31），大内螺旋（32）与大螺旋（11）啮合，外花键（31）与内花键（21）啮合，大螺旋套（3）上设置有多个滚珠孔（34）；所述小螺旋套（4）在螺旋轴（1）上的轴向位置通过右挡圈（9）限制，右挡圈（9）安装于右挡圈槽（14）中，小螺旋套（4）内部设置有小内螺旋（41）以及外部设置有半圆环槽（44）和多个球面凹陷（43），小内螺旋（41）与小螺旋（12）啮合；所述滚珠（5）设置于大螺旋套（3）和小螺旋套（4）之间，在托架（6）、弹簧（7）和螺钉（8）的共同配合下可以在大螺旋套（3）和小螺旋套（4）之间传递一定转矩；所述托架（6）一端面设置有凹球面（61），另一端面设置保持柱（62）。

2.根据权利要求书1所述的双螺旋超越离合器，其特征在于：所述大螺旋（11）和小螺旋（12）具有相同导程和旋向。

3.根据权利要求书1所述的双螺旋超越离合器，其特征在于：所述滚珠孔（34）均匀布置在圆周上。

4.根据权利要求书1所述的双螺旋超越离合器，其特征在于：所述球面凹陷（43）均匀布置在圆周上。

5.根据权利要求书1所述的双螺旋超越离合器，其特征在于：所述滚珠孔（34）与球面凹陷（43）数量相等。

6.根据权利要求书1所述的双螺旋超越离合器，其特征在于：所述保持柱（62）有合适的长度，既能保证滚珠（5）进入半圆环槽（44），又可以限制滚珠（5）全部进入滚珠孔（34）中。

7.根据权利要求书1所述的双螺旋超越离合器，其特征在于：所述大螺旋套（3）在双螺旋超越离合器超越时与大螺旋（11）之间有2～4mm的轴向间隙。

8.根据权利要求书1所述的双螺旋超越离合器，其特征在于：所述小螺旋套（4）在双螺旋超越离合器结合时与大螺旋（11）之间有10～15mm的轴向间隙。