[发明专利]估算参与介质接收到的光量的方法及相应的设备在审

专利信息
申请号: 201310251502.7 申请日: 2013-06-24
公开(公告)号: CN103514624A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: P.高特隆;C.德拉兰德里;J-E.马维 申请(专利权)人: 汤姆逊许可公司
主分类号: G06T15/50 分类号: G06T15/50;G06T15/60
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 吕晓章
地址: 法国伊西*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 估算 参与 介质 接收 方法 相应 设备
【权利要求书】:

1.估算由非均匀参与介质(10)的点M(34)所接收的光量的方法,所述光由包括多个光源(31、32、33)的光环境(3)发射,其特征在于,该方法包括以下步骤:

选择(61)所述介质中的某些点以形成所述介质(10)的点的第一集合(401至40n),所述第一集合包括所述点M(34),

对所述第一集合中的每个点(401至40n),估算(62)表示所述所考虑的点和第一表面(40)之间沿多个特定光发射方向(421至427)的光衰减的多个第一光强度减少值(5212),所述第一表面(40)限定所述介质(10),

估算(63)表示所述点M(34)和至少一个第二表面(41)之间沿多个特定光发射方向(421至427)的光衰减的多个第二光强度减少值(5212),所述至少一个第二表面包括属于第一集合的所述点M(34)的邻域的某些点(402、403、414、415),

对所述第一集合中的每个点(401至40n),通过将所述第一光强度减少值投影在球面函数的标准正交基中来估算(64)第一投影系数(5211),所述第一投影系数表示在所述点处光强度的减少,以及

使用所述估算的第一投影系数和多个第二光强度减少值,估算(65)所述点M(34)所接收的光量。

2.如权利要求1的方法,其中,所述点M(34)所接收的光量对应于由所述光环境(3)发射并且在点M(34)和第一表面(40)之间沿所述多个特定光发射方向(421至427)衰减的光量,和由至少一个第二表面(41)的一组点再次发射并在点M(34)和第二表面(41)之间沿所述多个特定光发射方向(421至427)衰减的光量的总和。

3.如权利要求1至2之一的方法,其特征在于,它包括使用为第二表面(41)的点估算的第一投影系数,估算由属于第二表面(41)的第一集合中的每个点(402、403、414、415)所接收的光量的步骤。

4.如权利要求1至2之一的方法,其特征在于,它包括估算所述第二表面(41)和所述多个特定的光发射方向(421至427)之间的交点(410)的步骤,当所述交点(410)不属于点的第一集合时,通过内插由属于点的第一集合的第二表面(41)的至少两个点(414、415)所接收的光量来估算由交点所接收的光量。

5.如权利要求1至2之一的方法,其特征在于,它包括通过在所述球面函数的标准正交基中投影所述第二光强度减少值来估算第二投影系数的步骤,所述第二投影系数表示在点M(34)处光强度的减少,使用所述估算的第一投影系数和所述估算的第二投影系数来估算所述点M(34)所接收的光量。

6.如权利要求1至2之一的方法,其特征在于,所述第一和第二光强度减少值的估算通过对所述特定光发射方向(421至427)的光线行进来实现。

7.如权利要求1至2之一的方法,其特征在于,它包括在所述球面函数的标准正交基中估算第三投影系数的步骤,所述第三投影系数表示所述光环境(3)中的一组点的入射光。

8.如权利要求1至2之一的方法,其特征在于,它包括在所述球面函数的标准正交基中估算第四投影系数的步骤,所述第四投影系数表示所述介质的点的第二集合的相位函数。

9.如权利要求1至2之一的方法,其特征在于,它包括从点M(34)所接收的光量估算点M(34)所扩散的光量的步骤。

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