[发明专利]纳米防污防指纹的涂层组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，包括如下重量份数的各组分：

2.根据权利要求1所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述低表面能低聚物A为含氟或硅氧烷的反应性低聚物。

3.根据权利要求2所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述含硅氧烷的反应性低聚物的单或双端基为环氧基、羟基、羧基、氨基或含硅氧烷基。

4.根据权利要求3所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述含硅氧烷的反应性低聚物的结构式为：

其中，n为3～50中的任一整数，R1为碳原子数为1～6的烷基，R2为碳原子数为1～6的烷基，R3为环氧基、羟基、羧基、氨基或含硅氧烷基；所述含硅氧烷的反应性低聚物的数均分子量为200～6000道尔顿。

5.根据权利要求1所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述反应性化合物B为带有反应活性基团的可以与低表面能低聚物A反应的化合物。

6.根据权利要求5所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述反应性化合物B为碳链长度在1～20的醇、羧酸或胺类化合物。

7.根据权利要求1所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述纳米粒子C为二氧化硅或碳酸钙，其粒径为2～300纳米。

8.根据权利要求7所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述纳米粒子C为经硅烷或钛酸酯偶联剂表面处理后的纳米粒子C。

9.根据权利要求1所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述润湿剂D为具有烷基硅氧烷或全氟烷基链段，以及聚氧乙烯醚、羧基或羟基亲水链段的聚合物。

10.根据权利要求1所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述溶剂E为碳链长度为2～10的酯类、醚类、含氯或含氟烷烃溶剂。

11.根据权利要求10所述的纳米防污防指纹的涂层组合物，其特征在于，所述溶剂E为醋酸乙酯、醋酸丁酯、石油醚、正己烷、环己烷、氯仿、二氯化碳、二氟甲基-2，2，2-三氟乙基醚、氯甲基-1，1，1，3，3，3-六氟异丙基醚、全氟碳环醚、甲基九氟丁基醚或乙基九氟丁基醚。

12.一种根据权利要求1所述的纳米防污防指纹的涂层组合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

A、将偶联剂表面处理后的所述纳米粒子C分散在部分所述溶剂E中；

B、将所述低表面能低聚物A和反应性化合物B溶于余下的所述溶剂E中，加入所述步骤A中分散好的纳米粒子C，最后加入所述润湿剂D，得透明无色的涂布液；

C、将所述涂布液涂覆在玻璃基材上，溶剂挥发后，即得所述纳米防污防指纹涂层。