[发明专利]拉曼光谱增强粒子施加装置有效

专利信息
申请号: 201310197185.5 申请日: 2013-05-24
公开(公告)号: CN103293143A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 王磊;张凤玲;陈启振;朱朝军;何坚;范贤光;田中群 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 光谱 增强 粒子 施加 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及拉曼光谱检测,尤其是涉及利用超声雾化的一种拉曼光谱增强粒子施加装置。

背景技术

表面增强拉曼光谱是一种重要的谱学技术,可以从分子水平上鉴别吸附在纳米结构表面的物种,其增强能力可以达到106~1012。中国专利CN 101832933 B提供一种用壳层隔绝纳米粒子增强拉曼光谱的方法”,纳米粒子均匀铺撒在待测样品表面,可以直接进行表面增强拉曼光谱检测。

中国专利200420038666.8公开表面催化剂精确施加装置,采用进料仓、雾化仓、沉积窗实现对材料表面涂层密度、重量、范围等条件得精密控制,然而,其样品位置位于雾化仓下方,施加过程处于密封状态,无法用于拉曼光谱检测。

发明内容

本发明的目的在于提供能够向任意表面粗糙度固体均匀施加雾化后增强粒子,且利于检测拉曼CCD相机采集信号,结构简单,操作方便,满足拉曼光谱增强粒子原位施加要求的一种拉曼光谱增强粒子施加装置。

本发明设有喷嘴、超声换能器、传感器、第1蠕动泵、清洗池、储液瓶、第2蠕动泵和控制模块与计算机;所述喷嘴安装在待测样品上方,超声换能器与喷嘴连接,传感器设于超声换能器上方,用于监测超声换能器的雾化进程;所述第1蠕动泵与储液瓶通过软管连接,清洗池与第2蠕动泵通过软管连接;第1蠕动泵的出口设第1针头,第2蠕动泵的出口设第2针头,第1针头和第2针头均指向超声换能器,第1针头和第2针头不接触;传感器的信号输出端与控制模块与计算机连接,控制模块与计算机分别与超声换能器、第1蠕动泵和第2蠕动泵连接。

本发明的控制模块与计算机控制2个蠕动泵的工作时间,向超声换能器定量滴加粒子溶液或清洗溶液;超声换能器可以实现雾化效果,使滴加后的粒子或清洗溶液雾化。传感器可监控雾化进程,当超声换能器内液体全部雾化完,传感器发出信号给控制模块与计算机,由控制模块与计算机关闭超声换能器,避免损坏超声换能器。喷嘴起导向作用,可以将雾化后粒子部分施加到待测样品表面上。喷嘴从斜上方导向,目的在于避免遮挡检测拉曼信号CCD相机视野。

由于采用2套独立的管道指向超声换能器,因此可以避免污染管道,确保粒子无污染、粒子浓度不变。

本发明能够定量雾化,且具有向任意表面粗糙度固体均匀施加雾化后增强粒子的特点,结构简单,操作方便,能够满足拉曼光谱增强粒子原位施加的要求。

附图说明

图1为本发明实施例的结构示意图。

具体实施方式

以下实施例将结合附图对本发明作详细说明:

如图1所示,本发明实施例设有喷嘴1、超声换能器2、传感器3、第1蠕动泵4、清洗池5、储液瓶6、第2蠕动泵7和控制模块与计算机8;所述喷嘴1安装在待测样品9上方,超声换能器2与喷嘴1连接,传感器3设于超声换能器2上方,用于监测超声换能器2的雾化进程;所述第1蠕动泵4与储液瓶5通过软管连接,清洗池6与第2蠕动泵7通过软管连接;第1蠕动泵4的出口设第1针头41,第2蠕动泵7的出口设第2针头71,第1针头41和第2针头71均指向超声换能器2,第1针头41和第2针头71不接触;传感器3的信号输出端与控制模块与计算机8连接,控制模块与计算机8分别与超声换能器2、第1蠕动泵4和第2蠕动泵7连接。

本发明利用软管连接储液瓶5与第1蠕动泵4、清洗池6与第2蠕动泵7,第1蠕动泵4出口和第2蠕动泵7出口分别连接针头,并指向超声换能器2,2个针头针尖部分有一定距离无接触。超声换能器2能够将滴加的增强粒子或者清洗溶剂雾化。传感器3用来监测超声换能器2的雾化进程,可用激光对射式但不限于此种,当超声换能器内液体全部雾化完,传感器3发出信号给控制模块与计算机8,由控制模块与计算机8关闭超声换能器,避免损坏超声换能器2。超声换能器2直接连接喷嘴1,避免雾化后的增强粒子飘散开来污染检测拉曼的CCD相机镜头。喷嘴1安装在待测样品9侧上方,起导向作用,可以使雾化后的增强粒子部分施加到待测样品9表面,同时避免遮挡检测拉曼信号CCD相机视野。

控制模块与计算机8控制控制第1蠕动泵4的工作时间,向超声换能器2定量滴加粒子溶液。控制模块与计算机8控制超声换能器2的雾化时间。

本发明能够定量雾化,且具有向任意表面粗糙度固体均匀施加雾化增强粒子的特点,结构简单,操作方便,能够满足拉曼光谱增强粒子原位施加的要求。

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