[发明专利]主动平移式双面抛光机

说明书

所属技术领域

本发明涉及光学元件加工设备，尤其是抛光机，属于光学元件加工技术领域。

背景技术

目前国内外的双面抛光机主要针对小口径超薄光学元件的批量化生产，主要关注光学元件的面形精度或者平行度，普遍要求精度不高。随着大功率激光装置的迅速发展，对大口径高精度超薄光学元件制造提出了更高的要求。不仅对加工面形精度要求高，对加工质量也存在特殊要求，关注的重点不仅局限于宏观的面形精度，微观的表面质量也越来越重要，尤其是在元件表面的加工痕迹方面。传统的双面抛光机容易在元件表面产生明显的环带结构，大大影响了光束质量。

发明内容

针对上述问题，本发明提供一种同时对工件进行平移抛光和环形抛光的双面抛光机。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：主动平移式双面抛光机，包括下盘、工件环、上盘、机座、主动轮和主臂，机座一侧设有可前后移动的平移装置；平移装置上装有蟹钳和挡杆。

蟹钳和挡杆由平移装置带动，拖动工件做直线往返运动，工件环驱动工件进行环形运动，下盘对工件的下表面进行环形抛光的同时又进行平移抛光，上盘相对工件上表面进行平动抛光。

本发明的有益效果是，与传统的双面抛光机相比，集平移抛、环形抛于一体，适用于对加工痕迹有特殊要求的大口径超薄光学元件的抛光。

附图说明

图1是本发明总体结构示意图；

图2是本发明中平移装置结构示意图；

图3是图2的左视图。

图中零部件及编号：

1-下盘，2-工件环，3-上盘，4-机座，5-主动轮，6-主臂，7-蟹钳，8-挡杆，9-限位轮，10-仪表控制盘；11-平移装置，12-电机，13-皮带轮，14-工件。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明进一步说明。

如图1-3，主动平移式双面抛光机，包括下盘1、工件环2、上盘3、机座4、主动轮5和主臂6，机座4一侧设有可前后移动的平移装置11；平移装置11上装有蟹钳7和挡杆8。

平移装置11下部安装有电机12，电机12经皮带轮13与平移装置11连接。

工作时，工件14装入工件环2中，蟹钳7和挡杆8拖动工件环2对工件14进行平移抛光，工件环2驱动工件14进行环形抛光，上盘3相对工件14进行平动抛光。平移抛光、环形抛光的速度有仪表控制盘10确定，平动抛光是被动抛光，工件平移与上盘3进行相对运动。工件14装入工件环2中，下盘1对工件14的下表面进行环形抛光的同时又进行平移抛光，上盘3相对工件14上表面进行平动抛光。限位轮9对工件环2的移动范围限位，平移抛光和环形抛光的转速由仪表控制盘10确定。

平移抛光匀滑了超薄光学元件下表面环形抛光带来的加工轨迹，同时与上盘产生相对运动，匀滑了上表面的定点抛光，实现了对加工痕迹有特殊要求的大口径超薄光学元件的抛光。