[发明专利]一种基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法有效

专利信息
申请号: 201310193106.3 申请日: 2013-05-23
公开(公告)号: CN103274524A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 黄进刚;陈建军;项海;谢正苗 申请(专利权)人: 临安天川环保科技有限公司
主分类号: C02F3/28 分类号: C02F3/28;C02F103/30
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 王桂名
地址: 311200 浙江省杭州市临*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 厌氧段相 分离 技术 印染 废水 预处理 方法
【权利要求书】:

1.一种基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,所述印染废水包括碱减量废水、退浆废水和染色废水,其特征在于:所述印染废水预处理方法包括下述步骤:

(1)向碱减量废水或退浆废水中加入0.5~10g/L硫酸盐凝结剂,并在分离器中回收PVA进行资源化利用;

(2)步骤(1)出水与染色废水进行混合后进入调节池,在调节池内用硫酸调节pH至5~8,控制步骤(2)出水中的COD与硫酸根质量比在1~10:1之间;

(3)步骤(2)出水进入厌氧段第I相反应器进行产氢产酸过程,反应器内含有以发酵菌为优势菌种的厌氧活性污泥,所述第I相反应器中加入氧化还原介质,所述氧化还原介质为核黄素、蒽醌-2,6二磺酸盐、指甲花醌、胡桃醌中的一种;所述氧化还原介质在废水中的含量为1~50μmol/L;经过该步骤后色度和COD的去除率分别达到90%和20%以上;

(4)步骤(3)出水进入厌氧段第II相反应器进行产甲烷过程,反应器内含有以产甲烷菌为优势菌种的厌氧活性污泥,经过该步骤后色度和COD的去除率分别达到95%和60%以上。

2.根据权利要求1所述的基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,其特征在于:所述第I相反应器、第II相反应器为序批式厌氧反应器、上流式厌氧污泥床反应器、上流式厌氧滤池反应器中的一种。

3.根据权利要求1所述的基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,其特征在于:步骤(3)中,控制pH为5~7,水力停留时间为1~5h,第I相反应器运行温度为10~35℃,氧化还原电位小于-100 mV;步骤(4)中,控制pH为6.5~7.5,水力停留时间为5~12h,内循环回流比为100~300%,第II相反应器运行温度为10~50℃,氧化还原电位小于-200mV。

4.根据权利要求1所述的基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,其特征在于:步骤(1)中所述硫酸盐为硫酸钠,其在废水中的含量为2~10g/L。

5.根据权利要求1所述的基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,其特征在于:步骤(2)中所述硫酸为工业废硫酸,步骤(2)出水中硫酸根检测含量为100~1000 mg/L。

6.根据权利要求3所述的基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,其特征在于:步骤(3)中,控制pH为5.5~6.5,水力停留时间为2~3h,第I相反应器运行温度为15~30℃,氧化还原电位为-150~-250mV;步骤(4)中,控制pH为6.8~7.2,水力停留时间为6~8h,内循环回流比为100~150%,温度25~35℃,氧化还原电位为-300~-500mV。

7.根据权利要求2所述的基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,其特征在于:所述上流式厌氧滤池反应器采用粒径为3~5mm的火山岩、陶粒或活性炭为填料。

8.根据权利要求2所述的基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,其特征在于:所述序批式厌氧反应器或上流式厌氧污泥床反应器内设有潜水搅拌机。

9.根据权利要求3所述的基于厌氧段相分离技术的印染废水预处理方法,其特征在于:包括下述步骤:

(1)向碱减量废水或退浆废水中加入5.2g/L硫酸钠,并在分离器中回收PVA进行资源化利用;

(2)步骤(1)出水与染色废水进行混合后进入调节池,在调节池内用硫酸调节pH至7,硫酸根检测含量为500 mg/L,控制步骤(2)出水中的COD与硫酸根质量比为3.6;

(3)步骤(2)出水进入厌氧段第I相反应器进行产氢产酸过程,反应器为上流式厌氧滤池反应器,其以陶粒为填料,平均粒径3 mm,控制pH为6,水力停留时间为2.5h,第I相反应器运行温度为25℃,氧化还原电位为-150~-250mV;并投加核黄素20μmol/L;经过该步骤后色度去除率为93.8%,COD去除率为25.8%;

(4)步骤(3)出水进入厌氧段第II相反应器进行产甲烷过程,第II相反应器为上流式厌氧污泥床反应器;所述第I相反应器和第II相反应器的体积比为1:3;控制pH为7,水力停留时间为8h,内循环回流比为100%,第II相反应器运行温度35℃,氧化还原电位为-350~-450 mV;经过该步骤后色度去除率为98.8%,COD去除率为65.6%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于临安天川环保科技有限公司,未经临安天川环保科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310193106.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top