[发明专利]显影装置、处理盒和成像设备有效
申请号: | 201310178051.9 | 申请日: | 2013-05-15 |
公开(公告)号: | CN103425018A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 比留川国朗;前岛英树;吴服秀一 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 林振波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影 装置 处理 成像 设备 | ||
技术领域
本发明涉及用于成像设备的显影装置、可从成像设备的设备主体拆下的处理盒、以及用于在记录介质上形成图像的成像设备。
下文所述成像设备例示了在记录介质上形成图像的成像设备。因此,那些使用电子照相成像方法的电子照相复印机、电子照相打印机(例如激光束打印机、发光二极管(LED)打印机)以及传真机均为所述成像设备的实例。
显影装置是用来将形成在图像承载件(电子照相感光件)上的静电潜像显影的装置,并且包括设置在处理盒上的显像单元(显影单元)。处理盒以这种方式构造:图像承载件和作用在图像承载件上的处理单元(例如显影单元)一体形成在盒中,并且该盒可拆下地设置在成像设备主体(设备主体)上。
背景技术
传统上,在使用电子照相成像方法的成像设备中,相应于图像信息,用光线例如激光、LED光或灯光选择性地照射由充电装置均匀充电的感光鼓。这样,静电潜像就形成在感光鼓上。然后,这种静电潜像被显影装置(显影单元)显影。进一步地,形成在感光鼓上的显影图像被转印到记录介质上,从而在记录介质上形成图像。
显影装置包括:用于将显影剂供给至感光鼓的显影辊,具有用于将显影剂供给至显影辊的显影剂供给辊的显影腔,以及用于容纳将被供给至显影腔的显影剂的显影剂容置腔。
现有的显影装置中,显影剂容置腔设置在显影腔的下侧。这种情况下,显影剂必须从显影剂容置腔沿重力反方向向上供给至显影腔。因此,在显影剂容置腔中设置用于提取和输送显影剂以将显影剂从显影剂容置腔供给至显影腔的显影剂输送件。
然后,供给至显影腔的显影剂在成像处理过程中逐渐使用。然而,会出现一种情况,显影剂滞留在显影腔后侧底部或显影腔拐角部。这种滞留的显影剂直到最后都不会被使用。
因此,为了将这种处于滞留部的显影剂搅动并供给至显影剂供给辊,已经探讨了一种在显影腔中设置搅动件的结构(日本专利申请公开2011-39554)。日本专利申请公开2011-39554中探讨的包括有搅动件的处理盒的结构在图15中示出。
在图15所示的结构中,显影剂由输送件236从显影剂容置腔231a输送至设有显影辊225的显影腔231b。搅动件260设置在显影腔231b中,借助于被驱动的搅动件260,输送至显影腔231b的显影剂向着显影剂供给辊234移动,从而由显影剂供给辊234承载。进一步地,该显影剂从显影剂供给辊234供给至显影辊225,从而显影形成在感光鼓201上的静电潜像。
然而,如果设置了这种日本专利申请公开2011-39554中所述的搅动件,将会导致部件数量和组装工时的增加。此外,对于搅动件不能到达的位置而言,显影剂无法受到搅动,从而仍有可能不能消除显影剂滞留。
发明内容
本发明旨在提供一种简单的构造,能够消除显影剂在显影装置的显影腔中的滞留,该显影装置用于将显影剂从位于显影腔下侧的显影剂容置腔供给至位于上侧的显影腔。
根据本发明典型构造的一个方面,用于成像设备的显影装置包括用于承载显影剂的显影辊、用于将显影剂供给至显影辊的显影剂供给辊、用于管制显影辊所承载显影剂量的显影剂管制件、显影辊和显影剂供给辊设置其中的显影腔、用于容纳显影剂并且在显影装置安装在成像设备主体上的安装状态下位于显影腔下侧的显影剂容置腔、用于将显影腔和显影剂容置腔分开的分隔壁、用于使显影腔和显影剂容置腔相互连通并设置在分隔壁上的开口、用于通过使显影剂穿过开口而将显影剂从显影剂容置腔送至显影腔并且设置在显影剂容置腔上的显影剂输送件、以及向显影腔突出并设置在分隔壁上的凸部。
在下文参考附图对实施例的详细说明中将明白本发明的其他特征和方面。
附图说明
结合于说明书并构成其一部分的附图显示了本发明的各个实施例、特征以及方面,与文字说明一起用于解释本发明的原理。
图1是显示根据第一实施例的处理盒的主剖视图的示意图。
图2是显示根据第一实施例的电子照相成像设备的构造的示意图。
图3是显示根据第一实施例的处理盒的外部视图。
图4是显示根据第一实施例的显影腔和显影剂容置腔的构造的示意图。
图5是显示根据第一实施例的显影腔的第二种构造的示意图。
图6是显示根据第一实施例的显影单元填充显影剂时方位的示意图。
图7是显示根据第一实施例在基座件和显影框架之间的密封构造的外部视图。
图8是显示根据第一实施例在基座件和显影框架之间的密封构造的示意图。
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