[发明专利]基于LaB6纳米材料场发射的X射线管及移动CT扫描仪

权利要求书

1.一种基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，包括：阳极和阴极；所述阴极包括LaB6尖锥场发射阵列，且所述阴极在外加电场的作用下场致发射产生的电子轰击所述阳极以产生X射线。

2.根据权利要求1所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，所述LaB6尖锥场发射阵列包括：二极管LaB6尖锥场发射阵列，或者，三极管LaB6尖锥场发射阵列。

3.根据权利要求2所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，

所述二极管LaB6尖锥场发射阵列包括：硅尖锥二极管阵列和覆盖在硅尖锥表面上的LaB6纳米材料薄膜层；或者，

所述三极管LaB6尖锥场发射阵列包括：硅基、形成在所述硅基上的孔腔阵列、分布在各孔腔中的钼尖锥阵列、以及覆盖在各钼尖锥表面上的LaB6纳米材料薄膜层。

4.根据权利要求1所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，所述阳极和所述阴极之间还设有栅极，在所述阴极和所述栅极之间外加第一电场以使所述阴极场致发射产生电子，在所述栅极和所述阳极之间外加第二电场以加速穿过所述栅极的电子使之轰击所述阳极以产生X射线。

5.根据权利要求1所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，所述阳极为固定式阳极或者旋转式阳极。

6.根据权利要求5所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，所述固定式阳极包括：固定的铜阳极体以及固定于所述铜阳极体上的钨合金靶面。

7.根据权利要求6所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，所述钨合金靶面相对参考方向形成有预定的靶面倾角，所述参考方向与电子入射方向垂直。

8.根据权利要求7所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，所述钨合金靶面的厚度为400-500um，和/或，所述靶面倾角为11度。

9.根据权利要求1所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管，其特征在于，所述X射线管总长度小于或等于120mm，和/或，所述X射线管的最大直径小于或等于60mm，和/或，所述阳极和所述阴极中尖锥顶部的距离小于或等于10um。

10.一种移动CT扫描仪，其特征在于，包括如权利要求1-9任一所述的基于LaB6纳米材料场发射的X射线管。