[发明专利]超导薄膜谐振器

权利要求书

1.一种超导薄膜谐振器，由镀在单晶衬底上(1)的非闭合的超导薄膜外环(2)和外环内的超导薄膜磁通聚焦器(3)构成，磁通聚焦器中间设有磁通聚焦孔(4)，其特征在于：磁通聚焦孔(4)与磁通聚焦器超导薄膜(3)之间设有单互补开环(5)，用于增强磁通聚焦器的聚磁效果。

2.如权利要求1所述一种超导薄膜谐振器，其特征在于非闭合的超导薄膜外环(2)，设有四条边，该四条边构成三个阶梯阻抗，每个阶梯阻抗的宽度为0.15mm～0.85mm，且三个阶梯阻抗不等。

3.如权利要求1所述一种超导薄膜谐振器，其特征在于非闭合的超导薄膜外环(2)的开口宽度小于1mm，通过调节该外环的四条边宽度和开口宽度实现对谐振频率的调节。

4.如权利要求1所述一种超导薄膜谐振器，其特征在于超导薄膜磁通聚焦器(3)与非闭合的超导薄膜外环(2)贴近，且两者之间留有缝隙(6)。

5.如权利要求1所述一种超导薄膜谐振器，其特征在于单互补开环(5)的谐振频率f₁远大于谐振器的谐振频率f₀，即f₁≥4f₀。

6.如权利要求1所述一种超导薄膜谐振器，其特征在于单互补开环(5)的内外环的长度之和，通过如下公式获得：

f1=c/[(L1+L2)·ϵe]]]>

其中f₁为单互补开环的谐振频率，c为光速，L₁，L₂分别为单互补开环的内边缘和外边缘长度，ε_e为介质的有效介电常数，取值为ε_r/2，ε_r为介质的相对介电常数。

7.如权利要求1所述一种超导薄膜谐振器，其特征在于单互补开环(5)的内径r₁、外径r₂及开口宽度d，通过内边缘和外边缘长度之和(L₁+L₂)确定，即单互补开环的内径r₁＝0.09(L₁+L₂)，外径r₂＝0.1(L₁+L₂)，开口宽度d＝0.74(L₁+L₂)。

8.如权利要求1所述一种超导薄膜谐振器，其特征在于单晶衬底(1)采用铝酸镧LAO，尺寸为10×10×1mm³。