[发明专利]一种纳米石墨涂层改性集流体有效
申请号: | 201310086725.2 | 申请日: | 2013-03-19 |
公开(公告)号: | CN103268942A | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 王樑 | 申请(专利权)人: | 王樑 |
主分类号: | H01M4/66 | 分类号: | H01M4/66 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 311200 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 石墨 涂层 改性 流体 | ||
技术领域
本发明涉及锂离子电池材料技术领域,特别涉及一种纳米石墨涂层改性集流体。
背景技术
随着传统化石能源的日益枯竭,以及对环境保护问题的日益重视,人们对于新型绿色高效能源的需求日益迫切。锂离子电池作为具有强大竞争优势的新能源受到了格外的重视,除了在现有的小型便携式电池中的广泛应用外,锂离子电池在大功率、高能量的动力电池中的发展前景更是让人期待,此外储能电池对寿命和安全性能也有了更高的要求。
现有锂电池在动力、安全性能及寿命方面都存在较大问题,为了解决上述问题,研究工作者试图通过以下方式进行改进:(1)改性正负极活性材料;(2)改善导电剂;(3)改善电解液和隔膜;(4)改进电池制作工艺;(5)对集流体进行改进。
上述改进方式中,对集流体的改进效果显著,德国汉高公司将导电炭黑涂覆在铝箔表面,可以降低电池内阻,延长电池寿命。国内研究单位采用石墨烯涂覆于铝箔表面(如CN 102593464A的发明),可以进一步降低电池内阻。
然而石墨烯成本高,生产困难;而导电炭黑导电性能差。寻找一种成本低廉、导电性能优异的材料用于改性涂层,替代石墨烯和导电炭黑,从而达到提高锂电池综合性能非常重要。
发明内容
本发明的目的在于解决现有技术存在的上述问题,提供一种纳米石墨涂层改性集流体,生产成本低,适合于产业化推广,用于锂离子电池,能减少集流体与活性材料的界面阻抗,降低电池的内阻,提高电池循环寿命和倍率性能。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种纳米石墨涂层改性集流体,包括集流体箔材,所述集流体箔材的单面或双面具有含纳米石墨的涂层。
本发明采用纳米石墨作为涂层的主要功能材料,纳米级石墨材料保留了高石墨化程度石墨的特点,导电、导热效果好,同时纳米化的特点可以提高石墨材料的分散性、涂覆效果等,适合于作为涂层材料。此外纳米石墨材料较石墨烯成本低廉,适合于产业化推广,用于锂离子电池,能减少集流体与活性材料的界面阻抗,降低电池的内阻,提高电池循环寿命和倍率性能。
集流体箔材为铝箔或铜箔,若作为锂电池负极集流体,上述涂层将附着在铜箔上,若作为锂电池正极集流体,上述涂层将附着在铝箔上。
所述纳米石墨材料微观形貌为平面状、片状、棒状、球状或其它无规则形状。
作为优选,所述含纳米石墨的涂层厚度为50纳米至10微米。本发明的涂层厚度应在合理的范围内,当涂层过薄小于50纳米时,纳米石墨不足以覆盖集流体箔材,此时很难发挥涂层的功效;当涂层过厚大于10微米时,由于纳米石墨导电性低于集流体箔材,导致整体导电效果不足,涂层优选厚度为100纳米至5微米,
作为优选,所述含纳米石墨的涂层的原料包括导电剂和粘结剂,导电剂与粘结剂的质量比为4-99:1。导电剂与粘结剂的质量比优选为9-99:1。
作为优选,所述导电剂为纳米石墨,或所述导电剂为纳米石墨与膨胀石墨、石墨烯、碳纳米管、碳纤维、活性碳、无定形碳、导电炭黑、中间相碳微球、乙炔黑、Super-Li、KS-6中的一种或几种的组合形成的混合物,其中纳米石墨占导电剂的质量百分比大于30%。Super-Li即Super P Li,作为优选,其中纳米石墨占导电剂的质量百分比大于50%。
作为优选,所述粘结剂为聚偏氟乙烯、聚氨酯、环氧树脂、酚醛树脂、聚丙烯酸、羧甲基纤维素钠、丁苯橡胶、LA系列粘结剂中的一种或几种组合。
作为优选,所述纳米石墨参照石墨的晶体结构表示方法,沿z方向平均尺寸介于3纳米至100纳米之间,沿xy平面方向平均尺寸介于3纳米至100微米之间。本发明的纳米石墨由于在Z方向具有纳米结构,尺寸为3纳米至100纳米,因此,与普通的石墨材料相比,纳米石墨易于形成优异的导电网络;与其他的纳米碳材料相比,纳米石墨的石墨化程度高,导电、导热性能优异,能减少集流体与活性材料的界面阻抗,提高散热效果。此外,某些高石墨化的材料如石墨烯、碳纳米管,价格昂贵,生产制备困难,而纳米石墨材料制备方法简单,易于规模化生产,成本低廉,适合于市场推广。
作为优选,所述纳米石墨沿xy平面方向主要为碳原子以sp2杂化轨道组成六角形蜂巢状晶格,沿z方向主要为碳原子以π键结合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王樑,未经王樑许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310086725.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。