[发明专利]形成地下流动介质流动控制界面的方法

说明书

技术领域

 本发明涉及一种水利建筑、防止地下污染扩散、地理自然灾害防治等技术领域，是一种隔离阻滞或选择性通过地下流动介质的控制界面制造方法。

背景技术

地下流动介质人工控制方法一般分为：对液体流动的截止控制，如防渗截流等。主要目的是通过限制地下水的流动来达到局部蓄水和控制水载体有害物扩散；只允许流体通过，截止一定大小的颗粒物被流体带走，现在主要通过在地下构筑反渗透结构来防止土颗粒流失。

现在，实现上述地下流动介质人工控制方法主要有：地下刚性（有筋和素混泥土和柔性（加凝固材料原位土体拌合）连续墙、地下垂直铺塑、地下插板法等方法限制流体的流动；地下构筑反渗透结构等形成限制颗粒被流过的流体的载出。

目前，地下垂直铺塑是一种经济性很强，施工快捷的地下防渗方法。该工法一直以来其设计理念是将一种地表铺膜的工法移植应用于地下，该工法在实际应用中，膜植入地下的方式可以分为垂直于地面向下铺塑和卷状膜竖直放入地下后水平卷动展开两种方式，根据当前应用实际，为了简化工艺和经济因素而采用后者。由于采用下铺膜膜幅宽等于铺塑的深度，所以膜卷轴采用竖直放入地下沿施工轴线卷动展开的工法，被广泛应用于地下浅层（≤15m）防渗。该工法在施工轴线工位搭接上分为两膜水平重叠法、热粘合法、胶粘合法和两膜缝合法等。两膜水平重叠搭接存在膜间的间隙不均匀，其间隙随着膜铺设深度的增加而加大了控制难度，在局部存有防渗能力有限的现象，膜底部的封闭等对应用结果也有很大影响，该工法实际应用在地下防渗的综合渗透系数在10^-5cm/s-10^-7cm/s范围；膜热粘合和胶粘合法一般应用于膜的铺入地下前，在膜被植入地下后再进行存有应用难度，只能应用于浅地层，并且膜的粘合质量不好控制；膜缝合法同上并且存有缝合孔洞不利于防渗。综上所述，现有的地下垂直铺塑仍存在防渗方面的诸多问题。

发明内容

本发明的目的是，提供一种形成地下流动介质流动控制界面的方法，它的控制界面设计深度40m，适用深度40m内和大于40m。它是一种构筑一个永久性高阻滞流体介质的界面，或对流动的颗粒物进行粒径控制通过的界面的施工方法。它可有效解决铺塑过程中，两膜间难以密封防渗的不足、铺塑深度较浅和铺塑的首尾相接不能在工艺内解决等，填补现有技术应用领域的部分空白，以一种较之以前更加可靠地截止渗透或选择性通过的方法扩展地下构筑物适用的范围。