[发明专利]基于多爱泼斯坦方圈的电工钢片比总损耗测量方法有效

专利信息
申请号: 201310072379.2 申请日: 2013-03-07
公开(公告)号: CN103149544A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 范亚娜;刘涛;程志光;王晓燕;刘兰荣;赵志刚 申请(专利权)人: 保定天威集团有限公司
主分类号: G01R33/12 分类号: G01R33/12
代理公司: 唐山顺诚专利事务所 13106 代理人: 于文顺;喻期彪
地址: 071051 河北省*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 多爱泼 斯坦 电工 钢片 损耗 测量方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种基于多爱泼斯坦方圈的电工钢片比总损耗测量方法,属于电磁测量技术领域。

背景技术

电工钢片比总损耗测量的技术难点在于被测样品采用双搭接结构构成磁路,搭接部分磁路不均匀,因而等效磁路长度难于确定。虽然现行标准规定的25cm爱泼斯坦方圈能够测量样件的比总损耗,但由于其磁路长度规定为定值0.94m,使得被测样品比总损耗不完全等同于样品均匀区域的比总损耗,有一定的误差,不能准确地得到被测样品的均匀比总损耗。

发明内容

本发明目的是提供一种基于多爱泼斯坦方圈的电工钢片比总损耗测量方法,采用二级加权平均法,将两组方圈计算得到的有效磁路长度做二级加权处理,得到不同磁密下对应的不同的磁路长度;同时,可以根据测量结果更准确地计算出被测样品均匀比总损耗,解决背景技术存在的上述问题。

本发明的技术方案是:基于多爱泼斯坦方圈的电工钢片比总损耗测量方法,采用三种尺寸的爱泼斯坦(Epstein)方圈模型进行同一组被测电工钢片样品的总损耗测量;根据二级加权平均法,分别对两组爱泼斯坦方圈进行有效磁路长度的求解计算,最终得到不同磁密下对应的不同的磁路长度;同时,利用二级加权平均法实现比总损耗的计算,比背景技术用的单爱泼斯坦方圈和双爱泼斯坦方圈的比总损耗测量更为准确。

所述的三种尺寸的爱泼斯坦方圈,长度分别为25cm、20cm及17.5cm三种尺寸的爱泼斯坦方圈。

更具体的测量方法:

被测电工钢片样品长度为L,在四个空心线圈内搭接组成测试结构,角部用砝码压紧,分别在三种尺寸的爱泼斯坦(Epstein)方圈上进行同一组样品的总损耗测量,三个爱泼斯坦方圈长度尺寸分别为25cm、20cm及17.5cm;

假设长度尺寸分别为25cm和20cm的两个方圈总损耗的差值只与爱泼斯坦方圈铁轭长度差有关,产生损耗差值的铁轭区域为爱泼斯坦方圈铁轭中段区域,假设这一区域的磁通密度分布和损耗分布是均匀的,每个被测电工钢片样品的有效测量区域长度差用表示;因此,两个长度尺寸分别为25cm和20cm爱泼斯坦方圈的损耗差可以表示为:

                                                                                                                (1)

式中,Pno——25cm方圈的总损耗,W

Psm——17.5cm方圈的总损耗,W

Pnc——25cm方圈转角处的损耗,W

Pnl——25cm方圈铁轭处的损耗,W

Psc——17.5cm方圈转角处的损耗,W

Psl——17.5cm方圈铁轭处的损耗,W

根据假设条件,得PncPsc,则式(1)可以改写为

                                                                            (2)

与(2)式损耗差值对应的被测电工钢片样品有效质量为

                                                                                    (3)

式(3)中mt为被测电工钢片样品的总质量,则25cm方圈的均匀区单位质量损耗Ploss可以表示为

                                                                             (4)

与被测电工钢片样品均匀区相关的有效磁路长度为

                                      

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于保定天威集团有限公司,未经保定天威集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310072379.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top