[发明专利]侦测蒸发源的装置及方法

权利要求书

1.一种侦测蒸发源的装置，应用于蒸镀工艺中的蒸镀装置上，所述蒸镀装置包括线性蒸发源，其特征在于，包括：

一导轨装置，所述导轨装置设置在所述蒸镀装置上；

一侦测器，所述侦测器通过所述导轨装置可移动的设置在与所述线性蒸发源具有一预设距离位置，以侦测整个所述线性蒸发源的蒸镀速率；

其中，所述侦测器通过所述导轨装置在所述线性蒸发源长度方向上进行移动。

2.根据权利要求1所述的侦测蒸发源的装置，其特征在于，还包括一连接结构，所述侦测器与所述连接结构一端连接，所述连接结构的另一端与所述导轨装置可移动连接。

3.根据权利要求2所述的侦测蒸发源的装置，其特征在于，还包括一动力装置，所述动力装置驱动所述连接结构带动所述侦测器沿所述导轨装置的轨迹移动。

4.根据权利要求1所述的侦测蒸发源的装置，其特征在于，所述导轨装置包括待命导轨、侦测导轨和转向装置；

所述侦测器通过所述侦测导轨在所述线性蒸发源长度方向上进行往复运动，以对整个所述线性蒸发源进行侦测；

所述侦测器通过所述待命导轨停留在所述线性蒸发源的一侧；

所述侦测器通过所述转向装置在所述待命导轨与所述侦测导轨之间进行切换，且当所述侦测器在所述待命导轨与所述侦测导轨之间切换时，所述侦测器移动的方向与所述线性蒸发源长度方向垂直。

5.根据权利要求1所述的侦测蒸发源的装置，其特征在于，所述侦测器通过所述导轨装置在所述线性蒸发源长度方向上的移动为往复运动。

6.一种侦测蒸发源的方法，其特征在于，应用于上述权利要求1-3中任意一项所述的侦测蒸发源的装置上，所述方法包括：

于所述蒸镀工艺前，将所述侦测器停止在所述线性蒸发源的一侧；

进行所述蒸镀工艺时，所述侦测器通过所述导轨装置移动至所述线性蒸发源的上方后，沿与所述线性蒸发源形状相同的轨迹对所述线性蒸发源进行移动侦测。

7.根据权利要求6所述的侦测蒸发源的方法，其特征在于，于一真空腔内进行所述蒸镀工艺。

8.根据权利要求6所述的侦测蒸发源的方法，其特征在于，所述侦测器进行所述移动侦测时进行匀速运动。

9.根据权利要求6所述的侦测蒸发源的方法，其特征在于，所述侦测器为CTRS晶振器。

10.根据权利要求6所述的侦测蒸发源的方法，其特征在于，进行所述蒸镀工艺时，

当所述侦测器进入待命状态时，所述侦测器移动至所述线性蒸发源的一侧位置；

当所述侦测器进入侦测状态时，所述侦测器移动至所述线性蒸发源的正上方，并沿与所述线性蒸发源形状相同的轨迹对所述线性蒸发源进行移动侦测。

11.根据权利要求10所述的侦测蒸发源的方法，其特征在于，所述侦测器进行所述移动侦测时进行匀速运动。