[发明专利]磁盘用玻璃基板及磁盘

说明书

本申请是申请日为2009年9月29日、申请号为200980138347.X、发明名称为“磁盘用玻璃基板及磁盘”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及安装于硬盘驱动装置的磁盘用玻璃基板及磁盘。

背景技术

作为安装于硬盘驱动器(HDD装置)的磁记录介质，有磁盘。磁盘是在由铝－镁合金等构成的金属基板上被覆NiP膜，或在玻璃基板或陶瓷基板上层叠磁性层或保护层而制造。目前，作为磁盘用的基板广泛使用铝合金基板，但随着近年的磁盘的小型化、薄板化、高密度记录化，逐步使用与铝合金基板相比，表面平坦度及薄板的强度优异的玻璃基板。

对于在磁盘用玻璃基板上至少形成磁性层而制成的磁盘，高记录密度化逐年进展，具备含颗粒粒子的磁性层的磁盘成为主流。在这种磁性层中，为了实现进一步的高记录密度化(例如，160GB以上／片，特别是250GB以上／片)，需要进一步缩小颗粒粒子的粒径，提高颗粒粒子的晶体取向性。这样，为了缩小颗粒粒子的粒径，并提高颗粒粒子的晶体取向性，磁盘用玻璃基板的特性，特别是需要降低表面粗糙度，减少表面存在的缺陷。作为减小了表面粗糙度的磁盘用玻璃基板，例如有专利文献1中公开的玻璃基板。

另外，近年来，为了谋求进一步的记录密度的高密度化，将邻接的磁道磁分离的分离磁道介质等图案化介质的开发正在进展。作为制造该图案化介质的方法例如有在玻璃基板上形成磁性层后，将该磁性层物理地分割而将磁道间分离的方法。而且，在分割磁性层时，使用纳米刻印技术，在磁性层上形成图案。

这时，在玻璃基板上存在缺陷(特别是凸缺陷)的情况下，在存在该缺陷的磁性层上无法形成上述图案。具体地说，在形成磁性层时，会接着玻璃基板上的缺陷而在磁性层上也形成缺陷。在该状态下进行纳米刻印时，只在该缺陷的周围未形成压模的图形。另外，根据情况，压模也有可能破损。因此，在使用纳米刻印技术制造图案化介质的情况下，要求玻璃基板上缺陷极少。

现有技术文献

专利文献1：特开2006－95676号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在表面粗糙度非常低的水平，例如在算术平均粗糙度(Ra)为0.1nm附近，降低表面粗糙度和减少表面存在的缺陷易成为综合调整关系。即，虽说是表面粗糙度降低，但表面存在的缺陷数不一定减少。这是因为在表面粗糙度为0.1nm附近水平的玻璃基板的情况下，目前以去除附着物等为目的进行的洗涤成为使玻璃基板表面变粗的原因。即，具有0.1nm附近水平非常低的表面粗糙度的玻璃基板，为了维持表面粗糙度需要在用于去除表面存在的缺陷的洗涤中使用比较弱的化学溶液。另外，该趋势在磁盘用玻璃基板特别是在由铝硅酸盐玻璃那样的多成分系玻璃构成的情况中尤为显著。

本发明是鉴于这样的情况而开发的，其目的在于，提供一种在算术平均粗糙度(Ra)为0.1nm附近的水平，表面存在的缺陷数非常少，适合作为高记录密度磁盘用的基板的磁盘用玻璃基板及磁盘。

用于解决课题的手段

本发明的一个方式提供一种磁盘用玻璃基板，其特征在于，使用原子力显微镜以2μm×2μm见方、256×256像素的分辨率测定的玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)为0.12nm以下，在检测以5μm点径照射波长405nm的光时的、来自所述玻璃基板的散射光时，在以0.1μm以上0.3μm以下的尺寸检测出的缺陷中，固定存在于所述玻璃基板上的缺陷的个数每24cm²为1个以下。

在本发明的磁盘用玻璃基板的一个方式中，优选玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)相对于最大峰高(Rp)的比(Ra／Rp)为0.15以上。

本发明另一方式的磁盘用玻璃基板，其特征在于，使用原子力显微镜以2μm×2μm见方、256×256像素的分辨率测定的玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)为0.12nm以下，使用一边向所述玻璃基板的主表面照射波长632nm的氦氖激光，一边扫描时的入射光和反射光之间的波长差检测出的、以俯视为0.1μm以上0.6μm以下的尺寸、且0.5nm以上2nm以下深度检测出的缺陷的个数每24cm²不足10个。

在本发明另一方式的磁盘用玻璃基板中，优选玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)相对于最大谷深(Rv)的比(Ra／Rv)为0.15以上。

具有上述构成的本发明的磁盘用玻璃基板，在算术平均粗糙度(Ra)为0.1nm附近的水平，表面存在的特定的缺陷数非常少，所以适合作为160GB以上/片、特别是250GB以上/片的高记录密度磁盘用的基板。