[发明专利]三峡库区坡耕地埂坎建造方法和坡耕地埂坎有效

专利信息
申请号: 201310051238.2 申请日: 2013-02-16
公开(公告)号: CN103088835A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 韦杰;陈国建;金慧芳;侯林;董宏伟 申请(专利权)人: 重庆师范大学
主分类号: E02D17/20 分类号: E02D17/20;A01B79/02
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 李海华
地址: 400047 *** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 三峡 库区 耕地 建造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及农业耕地埂坎技术的改进,具体涉及一种三峡库区坡耕地埂坎建造方法和土石结合的坡耕地埂坎,属于坡耕地埂坎技术领域。

 

背景技术

三峡库区耕地资源十分有限,农村居民人均耕地面积0.88亩,且大部分为坡耕地,社会经济加速发展引起非农建设占用耕地增量大,导致人地矛盾更加尖锐。地埂和田坎(统称为埂坎)是地块的分界线,约占耕地面积的6%~12%,具有水土保持、行走等多重功能。“坡改梯”是三峡库区坡耕地整治和中低产田改造的重要途径,实施过程中通常采用石质埂坎,但石坎修筑成本高、机械台班或劳动力投入多,在现行社会经济条件下,不宜全部修筑石质埂坎。同时,大量石质埂坎占地多,虽方便行走,但石质埂坎无法耕种不能产生经济效益,在耕地日益紧张的三峡库区农民不易接受单一的纯石坎。此外,石坎比较适宜在石料丰富的地区修建,而在石料缺乏地区难以推广,具有一定局限性。

鉴于以上问题,在三峡库区坡耕地整治或水土流失综合治理过程中,采用了土质埂坎替代(部分)石坎,也采用了土坎或土坎与石坎间隔布置等措施。野外调查表明,土质埂坎比较适宜于坡度较小的坡耕地内,在土坎两侧种植地埂植物篱,也能提高其利用效率。但土质埂坎最大的问题是具有不稳定性,三峡库区雨量多,耕地坡度大,单一土坎容易因地表径流冲刷而被毁坏,造成严重的水土流失。因此,需要寻求新的埂坎建造方法以解决耕地埂坎利用率不高、不稳定、成本高等问题。

 

发明内容

    针对现有三峡库区耕地石坎占地多、土地利用率不高和土坎不稳定、易损毁等不足,本发明的目的在于提供一种提高埂坎利用率、相对比较稳固、具有较好水土保持效果且农民能接受的专用于三峡库区的土石结合埂坎建造方法和坡耕地埂坎。

本发明的技术方案是这样实现的:

三峡库区坡耕地埂坎建造方法,其建造步骤为,

1)在坡耕地原有地坎位置修建由条石(或块石、空心砖)堆砌而成的硬料层,堆砌时无需人工水泥抹面以形成自然缝隙;硬料层上表面进行糙化处理以增强与后面要设置的土质层之间的结合力并间隔开凿有若干凹槽,凹槽形成水分储存器,同时也增强硬料层与后面要设置的土质层之间的结合力;

2)在硬料层上表面覆土并压实以形成土质层地埂,土质层部分嵌入凹槽内,凹槽以上的土质层厚度为20~30cm;

3)土质层顶部两侧种植低矮的经济灌草植物,中间用作行走道。

进一步地,所述硬料层壁面沿不同高度布设若干内外壁面贯通的排水孔,以增强雨季排水能力,避免强降雨径流对硬料层产生损毁。

一种三峡库区坡耕地埂坎,它由上下两层构成,下层为硬料层,上层为土质层,硬料层由条石(或块石、空心砖)堆砌而成并形成自然缝隙;土质层厚度为20~30cm,土质层顶部两侧种植低矮灌草经济植物,中间用作行走道。

所述硬料层与土质层接触的上表面进行糙化处理并间隔开凿有若干凹槽,凹槽深度为3~6cm,土质层部分嵌入凹槽内。

所述硬料层壁面沿不同高度布设有若干内外壁面贯通的排水孔,排水孔断面总面积为整个壁面面积的1/30-1/40。

本发明土石结合埂坎相对于以往在三峡库区推广的埂坎而言,能显著改善单一土坎不稳定、单一石坎成本高等弊病。土质层顶面中间区域用于行走,土质层两侧种植低矮草本经济作物。无疑增加了作业面积和埂坎利用率,避免了以往采用的单一石坎造成的不能种植和土地占用率高的缺陷。土质层种植植物篱还有助于固土培肥,与地埂相结合起到双重调节作用,具有明显的水土流失控制效果,同时还产生一定的经济效益。

本土石结合埂坎建造工程量小,投资少(与单一石坎比,可节约1/3以上建设投资),就地取材,施工方法简单,容易修复,硬料层、土质层和其顶部的经济植物篱相结合形成系统配套的埂坎生物化体系。

 

附图说明

图1-本发明结构示意图。

 

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明。

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