[发明专利]一种应用于双轴研抛机的夹持工具

说明书

技术领域

本发明属于研磨抛光领域，主要是涉及一种新型研磨抛光工具，尤其是涉及一种应用于双轴研抛机的夹持工具，可在普通摆轴研抛机上实现环抛机效果。

背景技术

研磨抛光机是对金属，晶体，陶瓷等材料进行精加工的重要仪器和设备。通过研磨去除材料表面的宏观损伤层，使表面光滑平整，研磨是抛光的前一步，研磨后的物体再经过抛光能够得到非常光洁的表面，粗糙度降低到很小的水平。尤其是在科研领域，抛光是提高物理特性进行精密加工的一种非常重要的方式。要达到超光滑抛光，对抛光盘，抛光方式都有着极高的要求。我们日常使用的研磨抛光机主要分两种类型：摆轴式的和环抛式的，其中普通的单轴，双轴，四轴摆动式研磨抛光机，其工作方式为电机带动轴承使抛光研磨盘转动，载物盘置于研抛盘上方，由摆轴带动，在研抛盘转动的同时，载物盘做偏心或Z字形摆动，摆幅和摆速可以进行调节。其缺点是由于存在力矩和力臂，在摆轴摆动的过程中被磨样品的四周很容易出现研抛不均匀现象，进而造成面型恶化。如果使用沥青抛光盘，在抛光过程中和样品的啮合不好，或环境温度控制不当等情况发生时，盘面会失去平整性，进而影响抛光效果。因此，众多高精密光学元件的研抛都是在环抛机上进行。环抛机的优点在于可以在研磨抛光的同时对研抛盘进行修正。相对速度更加均匀。抛光模表面各部分依次外露，散热更加容易。抛光模露出的空间位置固定，易实现自动抛光与抛光液的添加。那么要在普通的摆动式双轴研抛机上进行高面型精度的加工与环抛相比是相对困难的。如何在摆动式研抛机的条件下进行高精密加工是从业者和科研人员面临的难题之一。

环抛是精密光学加工中最为常用的一种技术。其研磨抛光的原理就是对研抛盘精度的保持，破坏和修复过程。通过修整盘不断的对研抛模盘的修正，使被研抛对象达到非常高的面型精度和超低的表面粗糙度，而且光学平面度的获得不主要依靠机床的精度，而是依靠研抛盘精度的传递。

发明内容

本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的不足而提供一种应用于双轴研抛机的夹持工具，可以在普通摆动式研抛机上实现环形抛光的效果，解决了摆动式研抛机容易造成面型不好的难题，提高了加工精度。

本发明的目的可以通过以下技术方案来实现：

一种应用于双轴研抛机的夹持工具，包括：

中央套筒：开设有圆孔，该圆孔内设置紧固C型黄铜圈；

半圆弧形支架：对称设置在中央套筒的两侧，支架上开设有带螺纹的丝孔；

轴承部件：连接在半圆弧形支架上。

作为优选的实施方式，中央套筒通过圆孔使夹持工具与连接的研抛机的摆臂支杆呈垂直状态。

作为优选的实施方式，对称设置的半圆弧形支架呈S形。

作为优选的实施方式，每个半圆弧形支架上均有带螺纹的丝孔，孔与孔之间密集排布。

作为更加优选的实施方式，半圆弧形支架上每隔3mm开设一带螺纹的丝孔。

作为优选的实施方式，轴承部件推动研抛机的修正盘和样品盘转动，同时在研磨抛光盘的摩擦力的作用下，修正盘和样品载物盘还可以进行自转。如果需要可以根据研磨抛光盘大小另行增加半圆弧形支架的数目，以同时进行2个或以上样品研磨抛光。可大幅提高抛光质量以及研磨抛光效率。

作为优选的实施方式，轴承部件连接在丝孔中，间距由修整盘和载物盘大小而定。

作为更加优选的实施方式，轴承部件为带螺杆的轴承，所述的螺杆固定连接在丝孔中。

作为更加优选的实施方式，轴承为滚珠轴承、滚轴轴承、无油轴承或转轮。

作为更加优选的实施方式，螺杆下端以尤里胶或牛津包裹形成柱状或轮状。

作为优选的实施方式，每根半圆弧形支架上对称连接数个轴承部件。

作为更加优选的实施方式，每根半圆弧形支架上对称连接两个轴承部件。

使用时，首先将研抛机摆臂中心支杆对准研抛盘中心位置。通过模拟修整盘和载物盘工作范围确定夹具上每端半圆弧形支架所应安装轴承滚轮位置。根据修整盘的外径尺寸以及载物盘外径确定滚轮间的距离。然后在两端的半圆弧形支架上安装带胶圈的轴承部件，通过螺母锁定位置，每个半圆弧形支架上安装两个轴承部件，使二者尽量保持同一水平高度。半圆弧形支架本身为刚性一体化部件，可以保持两个轴承部件之间的平行度。将夹具中央圆孔对准摆动式研抛机直臂前端的竖杆，套入后根据距离研抛盘的距离设定紧固位置，利用内六角紧固螺钉锁死，调整好高度后固定摆臂。