[发明专利]全自动玻璃刻花机在审

专利信息
申请号: 201310015538.5 申请日: 2013-01-16
公开(公告)号: CN103084945A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 周朋 申请(专利权)人: 上海依我玻璃制品有限公司
主分类号: B24B7/24 分类号: B24B7/24;B24B55/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200940 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 全自动 玻璃 刻花
【说明书】:

技术领域

 本发明涉及一种玻璃加工机械,具体涉及一种全自动玻璃刻花机。

背景技术

在玻璃表面磨刻出花纹可以使玻璃更加美观,使其更能满足人们的审美要求。传统的玻璃刻花加工是由手工作业完成的,作业者手捧着玻璃,在被固定的砂轮机的高速旋转的砂轮上磨刻加工,将玻璃表面加工出花纹。传统的手工磨刻花纹加工效率低、劳动量大、加工精度差。

随着科技的不断发展,如今人们采用玻璃刻花机对玻璃表面进行刻花纹加工。然而,现有技术的玻璃刻花机的发展时间较短,技术还不够成熟,其结构的合理性及加工精度还有待于进一步发展和提高。

发明内容

本发明为了克服现有技术存在的不足,提供一种全自动玻璃刻花机。

本发明是通过以下技术方案实现的:一种全自动玻璃刻花机,包括床身、横梁、X轴丝杠导轨传动机构、X轴驱动同步电机、两个Y轴丝杠导轨传动机构、两个Y轴驱动同步电机、Z轴丝杠导轨传动机构、Z轴驱动同步电机、磨头旋转同步带传动机构、磨头旋转驱动伺服电机、磨头箱、磨头机构及电控柜,所述床身的中部设置有工作台面,所述两个Y轴丝杠导轨传动机构分别设置于所述床身的左右两端,两个所述Y轴丝杠导轨传动机构分别由两个所述Y轴驱动同步电机驱动,所述横梁通过这两个Y轴丝杠导轨传动机构横向设置于所述工作台面的上方,所述X轴丝杠导轨传动机构、所述X轴驱动同步电机均设置于所述横梁上,所述X轴驱动同步电机驱动所述X轴丝杠导轨传动机构,所述磨头箱通过所述X轴丝杠导轨传动机构、所述Z轴丝杠导轨传动机构连接于所述横梁上,所述Z轴驱动同步电机驱动所述Z轴丝杠导轨传动机构,所述磨头旋转同步带传动机构、所述磨头旋转驱动伺服电机均设置于所述磨头箱内,所述磨头旋转驱动伺服电机驱动所述磨头旋转同步带传动机构,所述磨头机构通过所述磨头旋转同步带传动机构连接于所述磨头箱的下端。

所述床身上还设置有一个真空机,所述工作台面上设置有多个气孔,所述真空机通过气管与所述气孔连接。

所述工作平台的左右两侧设置有左备用刀库和右备用刀库。

本发明的有益效果是:本发明的结构合理、操作简单、使用寿命长、加工精度高,能够自动对玻璃进行表面刻花加工。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

在图中:1-床身;2-工作台面;3-横梁;4-磨头箱;5-磨头机构;6-电控柜。

具体实施方式

以下结合附图对本发明作详细描述。

如图1所示,一种全自动玻璃刻花机,包括床身1、横梁3、X轴丝杠导轨传动机构、X轴驱动同步电机、两个Y轴丝杠导轨传动机构、两个Y轴驱动同步电机、Z轴丝杠导轨传动机构、Z轴驱动同步电机、磨头旋转同步带传动机构、磨头旋转驱动伺服电机、磨头箱4、磨头机构5及电控柜6,床身1的中部设置有工作台面2,两个Y轴丝杠导轨传动机构分别设置于床身1的左右两端,两个Y轴丝杠导轨传动机构分别由两个Y轴驱动同步电机驱动,横梁3通过这两个Y轴丝杠导轨传动机构横向设置于工作台面2的上方,X轴丝杠导轨传动机构、X轴驱动同步电机均设置于横梁3上,X轴驱动同步电机驱动X轴丝杠导轨传动机构,磨头箱4通过X轴丝杠导轨传动机构、Z轴丝杠导轨传动机构连接于横梁3上,Z轴驱动同步电机驱动Z轴丝杠导轨传动机构,磨头旋转同步带传动机构、磨头旋转驱动伺服电机均设置于磨头箱4内,磨头旋转驱动伺服电机驱动磨头旋转同步带传动机构,磨头机构5通过磨头旋转同步带传动机构连接于磨头箱4的下端。

本发明包括电路、气路、水路及油路,其中,电路用于给电机供电及控制电机运转;工作平台的左右两侧设置有左备用刀库和右备用刀库,气路是左备用刀库、右备用刀库及磨头自动换刀机构所需而配备的;三相水泵自动供给冷却水,水路用于冷却磨头机构5;油路上连接有一个自动加油器,定时定量的给设备的传动机构加油润滑,延长传动机构的使用寿命。

床身1上还设置有一个真空机,工作台面2上设置有多个气孔,真空机通过气管与气孔连接。工作时,开启真空机,大气压将玻璃固定在工作台面2上,保证在加工过程中玻璃不发生位移。

工作时,将玻璃放置于工作台面2上,开启真空机将玻璃固定,启动装置,磨头机构5沿X轴向、Y轴向动作并进行旋转动作,在玻璃表面加工出花纹。本发明能在波路表面加工出宽度为40mm的花纹。

最后应当说明的是,以上内容仅用以说明本发明的技术方案,而非对本发明保护范围的限制,本领域的普通技术人员对本发明的技术方案进行的简单修改或者等同替换,均不脱离本发明技术方案的实质和范围。

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