[发明专利]在成像装置中再循环和过滤空气以形成空气屏障

说明书

背景技术

成像装置可包括以液滴形式将诸如墨之类的流体喷射在基底上的流体施加器单元。成像装置可形成空气屏障以减少沉积在成像装置的基底、流体施加器单元和/或其它部件上的浮质（aerosol）、微粒等的量。

附图说明

非限制性示例在以下描述中描述，参考所附的图进行阅读，且不限制权利要求的范围。图中示出的部件和特征的尺寸主要为了表示的方便和清楚而选择，并不一定按比例。参考附图：

图1是根据示例的成像装置的框图。

图2A是根据示例的在打印模式中成像装置的示意性侧视图。

图2B是根据示例的在维护模式中成像装置的示意性侧视图。

图3是根据示例的图2B的成像装置的基底（substrate）接收构件的顶视图。

图4是图示根据示例的在成像装置中再循环空气的方法的流程图。

图5是图示根据示例的诸如成像装置之类的计算设备的框图，该计算设备包括处理器和存储用以操作计算设备以再循环空气的指令的非临时计算机可读存储介质。

具体实施方式

成像装置可包括以液滴形式将诸如墨之类的流体喷射在基底上的流体施加器单元。成像装置可形成空气屏障以减少沉积在成像装置的基底、流体施加器单元和/或其它部件上的浮质、微粒等的量。成像装置还可周期性地执行维护过程以维护流体施加器单元内的流动路径以便适当地从其喷射液滴。也就是说，在维护模式中，流体施加器单元可周期性地执行喷溅过程，其中流体被从流体施加器单元以液滴形式从其喷射。然而，从流体施加器单元喷射的液滴可形成浮质，所述浮质如果不适当地去除，可污染成像装置的基底和/或部件。此外，浮质可使光学传感器不清晰，引起过早失效，增加旋转构件中的摩擦，沉积在介质路径表面上，增加摩擦以及潜在地引起成像装置泄漏弄脏内部和周围环境。此外，浮质与其它微粒的组合可相互作用通过形成粘性的球状体而增加这些问题。此外，例如灰尘、纸屑等微粒也可污染基底。因此，浮质和/或微粒可引起图像缺陷、部件故障和/或降低成像装置的寿命。

在示例中，成像装置除其它部件之外还包括基底接收构件、流体施加器单元和空气再循环器组件。流体施加器单元可在打印模式中将第一组液滴选择性地喷射到由基底接收构件接收的基底上，而在维护模式中选择性地喷射第二组液滴。空气再循环器组件可引导空气以形成跨打印区域的空气屏障以使浮质和微粒的至少一个从穿过空气屏障且到基底上重定向（redirect），以过滤浮质和微粒的至少一个来形成经过滤的空气，且用经过滤的空气形成空气屏障。因此，可有效地执行浮质和/或微粒的充分重定向和抽出。此外，可防止基底接触流体施加器单元的表面。因而，可减少成像缺陷、部件故障和成像装置的寿命的降低。

图1是根据示例的成像装置的框图。参考图1，在一些示例中，成像装置100包括基底接收构件12、流体施加器单元14和空气再循环器组件16。基底接收构件12可选择性地接收基底。也就是说，基底可沿基底传输路径传输以被放置在基底接收构件12上。基底可包括诸如纸张、乙烯树脂、塑料、织物等之类的介质。在一些示例中，不同大小的基底可由基底接收构件12接收。基底接收构件12可以是滚筒（platen）等。

参考图1，在一些示例中，在打印模式中，流体施加器单元14可将第一组液滴选择性地喷射到布置在基底接收构件12上的基底。在维护模式中，流体施加器单元14还可选择性地喷射第二组液滴。也就是说，打印模式是其中流体的第一组液滴被流体施加器单元14喷射到基底上的模式。例如，第一组液滴可在基底上形成图像。可替换地，维护模式是其中流体的第二组液滴被流体施加器单元14喷射以维护流体施加器单元14中的流动路径以从其适当地喷射后续的第一组液滴的模式。

在一些示例中，流体施加器单元14可包括以液滴形式喷射墨的至少一个喷墨打印头。例如，流体施加器单元14可以是页宽喷墨打印头阵列，其包括跨基底传输路径的宽度延伸的多个喷墨打印头。也就是说，多个喷墨打印头可跨进入打印区域且布置在基底接收构件12上的基底的宽度延伸。流体施加器单元14和基底接收构件12可在其间形成打印区域。空气再循环器组件16可引导空气以形成跨打印区域的空气屏障以使浮质和微粒的至少一个从穿过空气屏障且到基底上重定向。空气再循环器组件16还可过滤浮质和微粒的至少一个以形成经过滤的空气。空气再循环器组件16还可用经过滤的空气形成空气屏障。此外，可防止基底接触流体施加器单元14的表面。