[发明专利]光刻设备和装置制造方法

说明书

相关申请的交叉参考

本申请要求2012年1月17日提交的美国临时申请61/587,357的权利，该申请通过引用整体合并于此。

技术领域

本发明涉及光刻或曝光设备和制造装置的方法。

背景技术

光刻或曝光设备是在衬底或部件衬底上施加希望图案的机器。该设备例如可以用于集成电路(IC)、平板显示器和具有细微特征的其他装置或结构的制造。在传统的光刻或曝光设备中，可以称为掩模或刻线的图案形成装置可用来形成对应于IC的单个层、平板显示器或其他装置的电路图案。这种图案可转移到衬底(例如硅晶片或玻璃板)(部分)上，例如经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。在类似方面，曝光设备是在衬底(或其一部分)上或中形成希望图案中使用辐射光束的机器。

除了电路图案之外，图案形成装置可用来生成其他图案，例如彩色滤光图案或点阵。代替传统掩模，图案形成装置可包括图案形成阵列，其包括生成电路或其他可应用图案的单独可控制元件的阵列。与传统基于掩模的系统相比，这种“无掩模”系统的优点在于图案可更快速和更低成本地设置和/或更改。

因此，无掩模系统包括可编程的图案形成装置(例如空间光调制器、对比度装置等)。可编程的图案形成装置被编程(例如电子或光学地)以便使用单独可控制元件的阵列形成希望图案的光束。可编程图案形成装置的类型包括微型反射镜阵列、液晶显示器(LCD)阵列、光栅光阀阵列、自发射对比度装置阵列等。可编程的图案形成装置还可由电子光学偏转器形成，其被构造成例如运动投影到衬底上的辐射点，或间断地引导辐射光束远离衬底，例如到辐射光束吸收器。在任何这样的布置中，辐射光束可以是连续的。

发明内容

无掩模光刻设备可设置例如光栅以便在衬底的目标部分上形成图案。光栅可以设置被构造成发射光束的自发射对比度装置和被构造成将光束的至少一部分投影到目标部分上的投影系统。该设备可设置致动器以相对于衬底运动光栅或其一部分。由此，在光束和衬底之间可以具有相对运动。通过在运动过程中转换“接通”或“断开”自发射对比度装置，可以在衬底上形成图案。

根据本发明的一种实施方式，提供一种光刻设备，光刻设备包括：投影系统，其包括固定部件和运动部件，其被构造成将多个辐射光束投影到目标上的根据图案选择的位置上；以及控制器，其被构造成控制光刻设备以第一模式或第二模式操作，其中，在第一模式中，投影系统将第一量的能量输送到所选位置，并且在第二模式中，投影系统将大于第一量的能量的第二量的能量输送到所选位置。

根据本发明的一种实施方式，提供一种装置制造方法，其包括使用包括固定部件和运动部件的投影系统以便将多个辐射光束投影到目标上的根据图案选择的位置上；并且控制光刻设备以第一模式或第二模式操作，其中在第一模式中，投影系统将第一量的能量输送到所选位置，并且在第二模式中，投影系统将大于第一量的能量的第二量的能量输送到所选位置。

附图说明

现在只通过例子参考示意附图，描述本发明的实施方式，附图中相应的附图标记指示相应部件，并且在附图中：

图1描绘根据本发明的实施方式的光刻设备的一部分；

图2描绘根据本发明的实施方式的图1的光刻设备的一部分的顶视图；

图3描绘根据本发明的实施方式的光刻设备的一部分的高度示意的透视图；

图4描绘根据本发明的实施方式通过图3的光刻设备在衬底上投影的示意顶视图。

图5描绘根据本发明的实施方式的一部分的横截面图；

图6描绘根据本发明的实施方式通过光刻设备在衬底的一部分上投影的示意顶视图；

图7描绘根据本发明的实施方式通过光刻设备在衬底的一部分上投影的示意顶视图；以及

图8描绘根据本发明的实施方式通过光刻设备在衬底的一部分上投影的示意顶视图。

具体实施方式

本发明的实施方式涉及一种设备，其可包括例如具有自发射对比度装置的一个或多个阵列的可编程的图案形成装置。有关这种设备的进一步信息可在PCT专利申请公开no.WO2010/032224A2、美国专利申请公开no.US2011-0188016、美国专利申请no.US61/473636和美国专利申请no.61/524190中找到，这些申请通过引用整体合并在此。但是，本发明的实施方式可与包括例如以上描述的那些的任何形式的可编程的图案形成装置一起使用。