[发明专利]信息记录介质用玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及信息记录介质用玻璃基板的制造方法。

背景技术

以往，在用于计算机等的信息记录介质(磁盘记录介质)中，使用了铝基板或者玻璃基板。在这些基板上形成有磁性薄膜层，利用磁头使磁性薄膜层磁化，由此在磁性薄膜层中记录信息。

近年来，在硬盘驱动器装置中，开发出具有如下记录密度的装置：在1张2.5英寸的记录介质中记录容量为500GB(单面250GB)、面记录密度为630Gb/平方英寸以上，磁头与信息记录介质之间的距离(飞行高度)进一步缩小。

随着飞行高度变小，为了抑制将信息记录介质用于硬盘驱动器装置的情况下的不良(磁头碰撞)，作为信息记录介质而被容许的基板表面的缺陷的大小也进一步减小。此外，关于信息记录介质用玻璃基板的表面缺陷，对大小以及个数的要求变得严格。

为了满足这些严格的要求，在信息记录介质用玻璃基板的研磨加工、清洗方法上想办法，想法来降低信息记录介质用玻璃基板的缺陷。但是，由于在磁性头中采用的DFH(Dynamic Flying Height：动态飞行高度)机构等，对信息记录介质的精度要求更加严格。

作为清洗度高的清洗方法，例如在清洗半导体晶圆的情况下，将被清洗物浸入石英槽，进行超声波的施加(例如，日本特开2007-268448号公报(专利文献1))。

然而发现，当在信息记录介质用玻璃基板的清洗中使用石英槽并使用超声波清洗来进行清洗时，会产生由清洗不均引起的表面缺陷。石英槽的清洁度非常高，但为了获得刚性，需要设为厚度较厚的槽，对超声波的入射角度的衰减率带来较大影响，因而会产生局部清洗残留，在要求严格精度的信息记录介质用玻璃基板中，有时会成为问题。

另外已知，不锈钢槽或树脂槽等通常也被使用，在使用了这些清洗槽的情况下，能够在一定程度上均匀地对由研磨带来的杂质进行清洗，这对表面精度(凹凸)不成问题，但是，由于清洗槽自身引起的杂质的产生和附着，使得玻璃基板的表面物理性质产生不均，在涂覆磁性记录层时，有时会产生缺陷。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-268448号公报

发明内容

发明要解决的问题

如上所述，该发明要解决的问题在于，在信息记录介质用玻璃基板的制造过程中，对降低信息记录介质用玻璃基板的缺陷的要求变得严格。

为了降低信息记录介质用玻璃基板的缺陷，对该基板要求高清洁度和高平滑度。此处，所谓高清洁度和高平滑度是指要求如下高清洁度：作为使平滑度恶化的主要原因的、由研磨工序造成的附着物以及清洗时产生的杂质附着所引起的表面状态的偏差均不会产生。

如上所述，显然并不是：为了得到这样的高清洁度，只要单纯使用高清洁度的石英槽、或者使用超声波且设为对衰减率的影响小的不锈钢槽或树脂槽，就能在玻璃基板上使成为问题的附着物充分脱落。

本发明是鉴于上述实际情况而完成的，目的在于提供一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，能够减少在信息记录介质用玻璃基板的制造过程中产生的不良。

用于解决问题的手段

本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法具有进行玻璃基板的研磨的工序、以及在进行了玻璃基板的研磨后进行玻璃基板的清洗的工序。

进行上述玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：在槽内表面是由不锈钢或树脂构成的多个第1槽中，分别进行玻璃基板的清洗；以及，在槽内表面是由石英构成的第2槽中进行玻璃基板的清洗。

在多个第1槽中分别进行玻璃基板的清洗的工序包含至少1次超声波清洗。在多个第1槽中分别进行玻璃基板的清洗的工序完成之后，进行在第2槽中清洗玻璃基板的工序。

在1个实施方式中，在上述信息记录介质用玻璃基板的制造方法中，进行玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：在第2槽中清洗玻璃基板的的工序之前，对玻璃基板进行擦洗。

在1个实施方式中，在上述信息记录介质用玻璃基板的制造方法中，在第2槽中清洗玻璃基板的工序包含如下工序：对玻璃基板施加900kHz以上的频率的超声波。

在1个实施方式中，在上述信息记录介质用玻璃基板的制造方法中，在多个第1槽中分别进行玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：对玻璃基板施加78kHz以上且500kHz以下的频率的超声波。