[发明专利]高压气体系统

权利要求书

1.一种用于电解水的装置，所述装置包括：

电解单元，其包括：

腔室；

在所述腔室中的离子交换结构，所述离子交换结构包括：

离子交换构件，其配置成将所述腔室分隔成第一隔室和第二隔室；

阴极，其设置在所述离子交换构件的第一部分上并且位于所述第一隔室中；以及

阳极，其设置在所述离子交换构件的第二不同部分并且位于所述第二隔室中；所述装置还包括：

壳体，其至少部分地包围容纳产生于在所述离子交换结构中水的电解的氢气的高压腔室；以及

储存器，其与所述电解单元的腔室流体连通，所述储存器设置在所述高压腔室中，并且所述储存器配置成存储被供给至所述电解单元的腔室的水。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述离子交换结构包括质子交换膜。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述壳体还配置成至少部分地包围所述电解单元和储存器。

4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述离子交换结构是第一离子交换结构，所述装置还包括：

多个离子交换结构，其包括在所述腔室中的第一离子交换结构。

5.根据权利要求1所述的装置，还包括：

氢释放端口，其与所述第一隔室流体连通。

6.根据权利要求1所述的装置，还包括：

氧释放端口，其与所述第二隔室流体连通。

7.根据权利要求1所述的装置，还包括：

第二高压腔室，其容纳产生于在所述离子交换结构中水的电解的氧气，所述第二高压腔室与外部环境流体连通。

8.根据权利要求7所述的装置，还包括：

放泄阀，其设置在第二高压腔室中，以控制氧从所述第二高压腔室排出至外部环境。

9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述高压腔室与外部环境流体连通，并且与所述第一隔室流体隔离。

10.根据权利要求1所述的装置，其中，所述高压腔室与外部环境流体连通，并且与所述第一隔室直接流体连通。

11.一种用于电解水的装置，所述装置包括：

电解单元，其包括多个基板：

第一基板，其提供电解槽，所述第一基板形成腔室以及形成在所述第一基板中用于将水输送至所述腔室的通道；

在第一腔室中的至少一个离子交换结构，所述离子交换结构包括：

离子交换构件，其配置成将所述腔室分隔成第一隔室和第二隔室，所述离子交换构件包括多孔基板；

阴极，其设置在所述离子交换构件的第一部分上并且位于所述第一隔室中；以及

阳极，其设置在所述离子交换构件的第二不同部分上并且位于所述第二隔室中；所述装置还包括：

壳体，其至少部分地包围容纳产生于在所述离子交换结构中水的电解的氢气的高压腔室，所述高压腔室与外部环境流体连通；以及

储存器，其与所述电解单元的腔室流体连通，所述储存器设置在所述高压腔室中，并且所述储存器配置成存储被供给至所述电解单元的腔室的水。

12.根据权利要求11所述的装置，其中，所述储存器在所述高压腔室中并且包括弹簧加载的囊。

13.根据权利要求11所述的装置，还包括采用阳极结合至所述第一基板并覆盖所述腔室的第二基板。

14.根据权利要求11所述的装置，其中，所述阴极和阳极是以枝晶金属层的形式，所述基板的材料是硅或玻璃或陶瓷。

15.根据权利要求11所述的装置，还包括：

第一组通孔导体，其设置在所述第一基板中与所述阴极电接触；第二组通孔导体，其设置在所述第一基板中与所述阳极电接触。

16.根据权利要求13所述的装置，还包括：

第一液体-气体分离器，其由第二硅基板的一部分支承，所述第一液体-气体分离器与所述第一隔室流体连通；以及

第二液体-气体分离器，其由第二硅基板支承，所述第二液体-气体分离器与所述第二隔室流体连通。

17.根据权利要求11所述的装置，还包括

附加单元，每个包括：

离子交换结构，其形成为第一硅基板的组成部分；阴极以及阳极。