[发明专利]通过UV辐射用于在介质中产生活性物类的系统和方法无效

专利信息
申请号: 201280056501.0 申请日: 2012-11-13
公开(公告)号: CN103945872A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: R·L·格雷 申请(专利权)人: 高爽工业公司
主分类号: A61L2/10 分类号: A61L2/10;A61L2/00
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 李婉婉;张苗
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 通过 uv 辐射 用于 介质 产生 活性 物类 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于卫生处理制品的系统,所述系统包含:

朝向所述制品发射的紫外光,所述紫外光发射在122-230nm之间的频率的光;和

围绕所述制品分散并且与所述发射的紫外光交叉的介质,其中所述介质与所述光的频率相互作用,以产生活性氧物类,该活性氧物类消除所述制品上的微生物。

2.根据权利要求1所述的系统,所述系统还包含:

部分封闭的室,其携带所述紫外光并且含有所述介质。

3.根据权利要求2所述的系统,其中所述介质选自由以下组成的组:空气、氧、水、醇、水和醇的混合物、和氮。

4.根据权利要求2所述的系统,其中所述介质包含至少两种取代物,其中一种为氮气。

5.根据权利要求2所述的系统,其中所述光的频率为180-195nm。

6.根据权利要求2所述的系统,其中所述介质包含至少两种取代物,其中一种为氮气,并且其中所述光的频率为180-195nm。

7.根据权利要求6所述的系统,其中另一种取代物为醇,并且所述光的频率为180nm。

8.根据权利要求2所述的系统,其中所述光的频率为195-230nm。

9.根据权利要求2所述的系统,其中所述介质包含至少两种取代物,其中一种为氮气,并且其中所述光的频率为195-230nm。

10.根据权利要求2所述的系统,其中所述介质为通过暴露于真空UV光预处理的水。

11.根据权利要求2所述的系统,所述系统还包含:

喷嘴,以在所述部分封闭的室内分散所述介质。

12.根据权利要求11所述的系统,其中所述喷嘴包含雾化所述介质的压电喷嘴。

13.根据权利要求2所述的系统,其中所述介质基本上为氮,并且所述光的频率为约188纳米。

14.一种用于卫生处理制品的方法,所述方法包括:

朝向所述制品发射紫外光,所述紫外光具有在122-230nm之间的频率的光;和

围绕所述制品和所述紫外光布置介质,其中将所述介质和所述紫外光混合,以产生活性氧物类,该活性氧物类与所述制品上的微生物接触并且杀灭所述制品上的所述微生物。

15.根据权利要求14所述的方法,所述方法还包括:

提供室以至少部分地封闭所述紫外光和所述介质,所述室具有至少一个开口,以允许所述制品的进入和离开。

16.根据权利要求15所述的方法,所述方法还包括:

通过所述室运输所述制品。

17.根据权利要求15所述的方法,所述方法还包括:

调节所述紫外光的频率或所述介质的浓度中的至少一个,以优化对所选的微生物的杀灭效率。

18.根据权利要求17所述的方法,所述方法还包括:

围绕所述制品布置第二介质,其中第一和第二介质二者和所述紫外光产生活性氧物类。

19.根据权利要求15所述的方法,所述方法还包括:

调节所述紫外光的频率至180-195nm之间。

20.根据权利要求15所述的方法,所述方法还包括:

为所述室提供有至少一个被可偏转板条覆盖的开口。

21.根据权利要求15所述的方法,所述方法还包括:

朝向所述制品发射约188nm的紫外光频率;和

围绕所述制品分配基本上为氮的介质。

22.根据权利要求14所述的方法,其中所述分配包括:

通过喷嘴分配所述介质,以形成暴露于所述紫外光的液滴。

23.根据权利要求22所述的方法,其中所述分配包括:

通过压电喷嘴分配所述介质,以形成暴露于所述紫外光的雾化的液滴。

24.根据权利要求14所述的方法,所述方法还包括:

通过暴露于真空UV光预处理所述介质。

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