[发明专利]再剥离用水分散型丙烯酸类粘合剂组合物以及粘合片

说明书

技术领域

本发明涉及能够形成可以再剥离的粘合剂层的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。具体而言，本发明涉及能够形成防静电性、再剥离性优良、并且防经时剥离力(粘合力)上升性优良的粘合剂层的再剥离用水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。另外，本发明涉及设置有包含所述粘合剂组合物的粘合剂层的粘合片。

背景技术

以起偏振板、相位差板、防反射板等光学薄膜为代表的光学构件(光学材料)的制造、加工工序中，出于防止表面划痕、污渍、提高切割加工性、抑制破裂等目的，在光学构件的表面上粘贴使用表面保护薄膜(参见专利文献1、2)。作为这些表面保护薄膜，一般使用在塑料薄膜基材的表面上设置有再剥离性的粘合剂层的再剥离性的粘合片。

以往，这些表面保护薄膜用途中使用溶剂型丙烯酸类粘合剂作为粘合剂(参见专利文献1、2)，这些溶剂型丙烯酸类粘合剂含有有机溶剂，因此从涂布时的作业环境性的观点考虑，转换为水分散型丙烯酸类粘合剂(参见专利文献3～5)。

这些表面保护薄膜要求在粘贴到光学构件上的期间发挥充分的胶粘性。另外，在光学构件的制造工序等中使用后被剥离，因此要求优良的剥离性(再剥离性)。另外，为了具有优良的再剥离性，除了剥离力小(轻剥离)以外，还需要在粘贴到光学构件等被粘物上后，粘合力(剥离力)不会经时上升的特性(防剥离力(粘合力)上升性)。

另外，一般而言，表面保护薄膜或光学构件由塑料材料构成，因此电绝缘性高，在摩擦或剥离时产生静电。因此，在从起偏振板等光学构件上将表面保护薄膜剥离时，产生静电，在此时产生的静电残留的状态下对液晶施加电压时，存在液晶分子的取向损失并且产生面板的缺损的问题。

另外，静电的存在具有引起吸引尘埃或碎屑的问题、作业性下降的问题等的可能性。因此，为了解决上述问题，对表面保护薄膜实施各种防静电处理。

作为抑制带静电的尝试，公开了在粘合剂中添加低分子量的表面活性剂，将表面活性剂从粘合剂中转印到被保护物上以防静电的方法(例如，参见专利文献6)。但是，所述方法中，添加的低分子量的表面活性剂容易渗出到粘合剂表面，在应用于表面保护薄膜的情况下，担心会污染被粘物(被保护物)。

另外，表面保护薄膜用途(特别是光学构件的表面保护薄膜用途)等中，粘合片剥离时粘合剂在被粘物(光学构件等)表面的残留(所谓的“胶糊残留”)、粘合剂层中所含的成分转印到被粘物表面等造成的被粘物表面的污染，成为对光学构件的光学特性产生不利影响等问题，因此强烈要求粘合剂或粘合剂层对被粘物的低污染性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-961号公报

专利文献2：日本特开2001-64607号公报

专利文献3：日本特开2001-131512号公报

专利文献4：日本特开2003-27026号公报

专利文献5：日本专利第3810490号说明书

专利文献6：日本特开平9-165460号公报

发明内容

发明所要解决的问题

但是，如上所述，在这些任意一项现有技术中，均不能均衡地解决上述问题，在静电、污染成为特别严重的问题的电子设备相关的技术领域，现状是难以应对对具有防静电性等的表面保护薄膜的进一步改良的要求，并且尚未得到具有优良的再剥离性的水分散型丙烯酸类粘合剂。

因此，本发明的目的在于提供能够形成可以防止剥离时被粘物的静电(防静电性)、再剥离性、防经时剥离力(粘合力)上升性优良、并且对被粘物的低污染性、特别是在高湿度环境下在被粘物上产生白化污染的防止性(防白化污染性)也优良的粘合剂层的再剥离用途的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。另外，本发明的目的在于提供具有由所述粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合片。

用于解决问题的手段

本发明人为了实现上述目的进行了广泛深入的研究，结果发现，将由特定组成的原料单体得到的特定丙烯酸类乳液型聚合物、非水溶性交联剂以及离子性化合物作为构成成分，可以得到能够形成防静电性、再剥离性、防剥离力(粘合力)上升性以及低污染性优良的粘合剂层的再剥离用水分散型丙烯酸类粘合剂组合物，并且完成了本发明。

即，本发明的再剥离用水分散型丙烯酸类粘合剂组合物，其特征在于，含有由70～99.5重量％的(甲基)丙烯酸烷基酯(i)以及0.5～10重量％的含羧基不饱和单体(ii)作为原料单体而构成的丙烯酸类乳液型聚合物、非水溶性交联剂以及离子性化合物。