[发明专利]逐层构造模型的装置有效

专利信息
申请号: 201280042227.1 申请日: 2012-08-29
公开(公告)号: CN103764376A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 安德烈斯·多米尼克·哈特曼;英戈·埃德雷尔 申请(专利权)人: 沃克斯艾捷特股份有限公司
主分类号: B29C67/00 分类号: B29C67/00
代理公司: 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 代理人: 赵飞;郑雪娜
地址: 德国弗*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 构造 模型 装置
【权利要求书】:

1.一种用于逐层构造模型的装置,其中,提供用于构造模型的区域和用于将材料涂覆到所述区域的材料涂覆装置,所述区域优选为制造平台,所述材料涂覆装置被布置成可在所述区域上移动,其中,所述材料涂覆装置如此布置为门型架,使得其通过布置在所述区域相对侧上的至少两个线性导向装置而可在所述区域上移动,并且其如此围绕所述区域布置,使得所述门型架形成有在所述区域的侧向延伸的至少两个分段,其特征在于,提供了用于将其他材料涂覆到所述区域的至少一个其他材料涂覆装置。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述其他材料涂覆装置也提供在所述门型架上。

3.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于,所述其他材料涂覆装置提供在其他门型架上。

4.根据以上权利要求之一所述的装置,其特征在于,在所述门型架之一上或在另外其他门型架上提供光源、辐射源和/或热源。

5.根据以上权利要求之一所述的装置,其特征在于,所述其他门型架或所有门型架与所述线性导向装置接合。

6.根据以上权利要求之一所述的装置,其特征在于,所述其他门型架与其他线性导向装置接合。

7.根据以上权利要求之一所述的装置,其特征在于,所述材料涂覆装置包括颗粒材料涂覆装置、和/或打印头、和/或挤压器、和/或薄膜涂覆装置(folienbeschichter)。

8.根据以上权利要求之一所述的装置,其特征在于,基本上垂直于所述区域可移动地布置至少一个所述材料涂覆装置、光源、辐射源和/或热源。

9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述材料涂覆装置、光源、辐射源和/或热源的移动可以沿着侧向门型架件进行。

10.根据以上权利要求之一所述的装置,其特征在于,所述门型架可以互相从下方或从上方驶过。

11.根据以上权利要求之一所述的装置,其特征在于,此外,至少一个外围设备布置在所述装置中,并且,无论结构高度如何,其能够被接近.

12.一种用于逐层构造模型的方法,其中,提供用于构造模型的区域和用于将材料涂覆到所述区域的材料涂覆装置,所述区域优选为制造平台,所述材料涂覆装置被布置成可在所述区域上移动,其中,所属材料涂覆装置如此布置为门型架,使得其通过布置在所述区域相对侧上的至少两个线性导向装置而可在所述区域上移动,并且其如此围绕所述区域布置,使得所述门型架形成有在所述区域的侧向延伸的至少两个分段,其特征在于,至少一个其他材料涂覆装置根据具体情况而提供到其他门型架上,并且将其他材料涂覆到所述区域。

13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,至少两个门型架在处理步骤期间或之后,可以互相从下方或从上方驶过。

14.根据权利要求12或13所述的方法,其特征在于,所述材料涂覆装置也基本上垂直于平面移动。

15.根据权利要求12至14之一所述的方法,其特征在于,多个独立的门型架同时执行不同的构造处理。

16.根据权利要求12至15之一所述的方法,其特征在于,多个独立的门型架同时执行一个共同的构造处理。

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