[发明专利]石墨膜及石墨膜的制造方法

权利要求书

1.一种石墨膜的制造方法，其特征在于：

包括松弛控制步骤，且在该松弛控制步骤之后以2000℃以上的温度进行热处理；

该松弛控制步骤为：在自高分子膜的热分解开始温度起至高分子膜的松弛控制温度为止的温度范围下，控制高分子膜的宽度方向上的两端部的温度、以及高分子膜的宽度方向上的中央部的温度。

2.根据权利要求1所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

包括松弛控制步骤，且在该松弛控制步骤之后以2000℃以上的温度进行热处理；

在该松弛控制步骤中，按以下方式对高分子膜进行热处理：在自高分子膜的热分解开始温度起至高分子膜的松弛控制温度为止的温度范围下，使高分子膜的宽度方向上的两端部的温度高于高分子膜的宽度方向上的中央部的温度，且使高分子膜宽度方向上的自两端部至中央部的温度梯度为2.5℃/m以上。

3.根据权利要求2所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

在所述松弛控制步骤中，所述高分子膜在流经加热处理装置内的期间中接受热处理。

4.根据权利要求2或3所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

在所述松弛控制步骤中，在自两端部至中央部的温度梯度为2.5℃/m以上100℃/m以下的条件下，对高分子膜进行热处理。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

自一方端部至中央部的温度梯度与自另一方端部至中央部的温度梯度相同。

6.根据权利要求2～4中任一项所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

自一方端部至中央部的温度梯度与自另一方端部至中央部的温度梯度不同。

7.一种石墨膜，

沿其宽度方向所比较的其长度方向上的长度互异而具有松弛，并且在以其宽度方向上的中央部为中心时，自该中心至两端部的区间呈左右对称的松弛形状。

8.一种石墨膜，

沿其宽度方向所比较的其长度方向上的长度互异而具有松弛，并且在以其宽度方向上的中央部为中心时，自该中心至两端部的区间呈左右非对称的松弛形状。

9.根据权利要求1所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

在所述松弛控制步骤中，按以下方式对高分子膜进行热处理：使高分子膜的宽度方向上的两端部的温度低于高分子膜的宽度方向上的中央部的温度，且使高分子膜宽度方向上的自两端部至中央部的温度梯度为-2.5℃/m以下。

10.根据权利要求9所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

在所述松弛控制步骤中，按以下方式对高分子膜进行热处理：使高分子膜宽度方向上的自两端部至中央部的温度梯度为-100℃/m以上。

11.一种石墨膜，

沿其宽度方向所比较的其长度方向上的长度互异而具有松弛，并且其宽度方向上的中央部具有松弛。

12.根据权利要求11所述的石墨膜，其特征在于：

石墨膜中央部的松弛量b值为5mm以上。

13.根据权利要求1所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

在所述松弛控制步骤中，按以下方式对高分子膜进行热处理：使高分子膜宽度方向上的两端部与中央部之间的温度梯度为-2.4℃/m以上2.4℃/m以下。

14.一种石墨膜，其在日本工业标准JIS C2151所定的膜卷取性评价中的松弛量为20.0mm以下。

15.一种石墨膜，其在日本工业标准JIS C2151所定的膜卷取性评价中的松弛量为4.9mm以下。

16.根据权利要求1所述的石墨膜的制造方法，其特征在于：

在将高分子膜宽度方向上的一方端部的温度设为A，将另一方端部的温度设为C，将高分子膜宽度方向上的中央部的温度设为B的情况下，

在所述松弛控制步骤中按以下方式对高分子膜进行热处理：使温度A≥温度B≥温度C但温度A≠温度C，且使自温度A至温度C的温度梯度为2.5℃/m以上。

17.一种石墨膜，

沿其宽度方向所比较的其长度方向上的长度互异而具有松弛，并且其宽度方向上的单方端部具有松弛。